1) Deposit at low temperature
低温淀积
2) low temperature vapor deposition
低温汽相淀积
3) low temperature precipitation
低温沉淀
4) deposition temperature
淀积温度
1.
To optimize piezoresistive characteristics of poly-Si nanofilms, the influences of deposition temperatures were investigated on piezoresistive properties of low pressure chemical vapor deposited (LPCVD) nanofilms.
为优化多晶硅纳米薄膜的压阻特性,就淀积温度对低压化学气相淀积多晶硅纳米薄膜的压阻特性的影响进行了实验研究。
5) cold-active amylase
低温淀粉酶
1.
A cold-active amylase-producing fungus was isolated from low temperature soil samples and was identified as P.
从新疆高海拔地区采集土样中定向筛选得到1株低温淀粉酶产生菌株LA77,初步鉴定为解淀粉类芽孢杆菌(P。
2.
A cold-active amylase producing marine bacterium Pseudoalteromonas sp.
从江苏连云港海域筛选和分离到1株产低温淀粉酶的海洋细菌Pseudoalteromonas sp。
3.
Results showed that they match well and the models are applicable in the cold-active amylase fermentation process.
本实验分别利用Logistic方程和Luedeking-Piret方程描述低温淀粉酶产生菌LA7的发酵过程,建立菌体生长、低温淀粉酶生成和底物消耗的动力学模型,对模型预测值与实验值进行比较。
6) cryoprecipitate
[,kraiə,pri'sipiteit]
低温沉淀物
补充资料：化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中，由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2，Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长，特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD（MOCVD）。
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参考词条