1) leaping point
飞跃点
2) leap
飞跃
1.
Another Deepening and Leap in the Process of the Cognition of Socialism;
对社会主义认识的又一次深化和飞跃
2.
On the different grounds of the two leaps in the history of CPC;
中共历史上两次飞跃不同点比较研究
3.
On the common grounds of the two leaps in the history of CPC;
中共历史上两次飞跃之共同点论析
3) Li Feiyue
李飞跃
1.
Li Feiyue s Manual Therapies and Clinical Experience in Treating Lumbar Disorders;
李飞跃治疗腰椎病手法及推拿治疗经验
4) "Two-Leap" thought
“两次”飞跃
1.
Influence of Deng Xiaoping s "Two-Leap" thought on constructing new countryside;
“两次”飞跃思想对新农村建设的指导意义
5) two leaps
两个飞跃
1.
"Three Agricultures" and Deng Xiao-ping s "Two Leaps"of Agriculture.;
“三农”问题与邓小平农业“两个飞跃”思想
2.
Philosophically Think about Deng Xiao-ping s Thoughts of “Two leaps of Chinese Agriculture Development”;
邓小平农业改革发展的两个飞跃思想及其哲学思考
3.
Intensive Management of Agricultural Land: The Practice of Deng Xiaoping s "Two Leaps" Thinking;
农业土地集约化经营:邓小平“两个飞跃”思想的践行
6) the second rapid development
二次飞跃
1.
Six potential points of realizing the second rapid development of rural economy are presented in Yantai,the rules of the city choosing as the base of economic increasing points are pointed out and the apporachs of using potentials to realize the aim are discussed.
探讨了烟台市实现农村经济二次飞跃的六大潜力点,提出了本市选择经济增长点依据的原则,并讨论了利用潜力点实现经济目标的途
参考词条
补充资料:半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机(stepper)原型。
专家预估,EUV初步将投入0.07微米工艺的试产,未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域,甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称,由于部分研究人员早已预估,除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术,否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此,半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今,初步的开发成果即将公布,由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室,昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元,并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上,其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7~20%。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米,上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片,但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估,EUV初步将投入0.07微米工艺的试产,未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域,甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称,由于部分研究人员早已预估,除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术,否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此,半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今,初步的开发成果即将公布,由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室,昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元,并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上,其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7~20%。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米,上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片,但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。