1) leap in cognition and feeling
感知飞跃
2) perception jump
感知跳跃
1.
By using the method of experiment and mathematical statistics,this paper makes perception jump measurement for 431 college students in several times.
采用实验法及数理统计分析法 ,对 4 31名大学生的感知跳跃进行多次测量 ,用单因素方差分析法对测量数据的可靠性进行统计分析。
3) leap
[英][li:p] [美][lip]
飞跃
1.
Another Deepening and Leap in the Process of the Cognition of Socialism;
对社会主义认识的又一次深化和飞跃
2.
On the different grounds of the two leaps in the history of CPC;
中共历史上两次飞跃不同点比较研究
3.
On the common grounds of the two leaps in the history of CPC;
中共历史上两次飞跃之共同点论析
4) Li Feiyue
李飞跃
1.
Li Feiyue s Manual Therapies and Clinical Experience in Treating Lumbar Disorders;
李飞跃治疗腰椎病手法及推拿治疗经验
5) ski-jump takeoff
滑跃起飞
1.
Based on the takeoff safety criterion,a ski-jump model was developed to predict a land-based ski-jump takeoff performance for a fixed-wing aircraft.
从固定翼飞机陆基滑跃起飞的安全性要求出发,提出了一种预测起飞性能的模型,用于预测最小起飞速度和最短滑跑距离。
2.
The mathematical model of aircraft ski-jump takeoff with the influence of micro-downburst is established in the paper,and the influence of micro-downburst on aircraft ski-jump takeoff was analyzed using numerical method.
建立了微下冲气流影响下的飞机运动的数学模型,用数值方法分析了微下冲气流对飞机滑跃起飞的影响。
3.
A dynamics model of ski-jump takeoff on land was established.
建立了陆基滑跃起飞动力学模型,并以某型电传操纵飞机为例进行了滑跃起飞仿真计算。
6) ski-jump take-off
滑跃起飞
1.
The optimal choice of parameters for ski-jump take-off of naval aircrafts;
舰载机滑跃起飞参数的优化选择与气动特性
2.
According to the flight-dynamics theory,a mathematical model of aircraft ramp ski-jump take-off is established.
根据飞行动力学理论,建立了舰载机滑跃起飞数学模型。
补充资料：半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机（stepper）原型。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条