1) mask pattern
掩模图形
2) mask
掩模
1.
Multilayers on Extreme Ultraviolet Lithography Masks and Illumination Error;
极紫外投影光刻掩模的多层膜与照明误差
2.
Fabrication of continuous relief mask for diffractive plane focus lens;
连续型平面衍射聚光透镜掩模的制作
3.
A Novel GMTI Method Based on Masking Technique;
一种利用掩模法抑制杂波的GMTI方法
3) through-mask electroplating
掩模电镀
1.
Thickness uniformity of Ni microstructure deposited by through-mask electroplating;
掩模电镀镍微结构的镀层均匀性研究
4) phase-shifting mask
相移掩模
1.
Phase-shifting mask for 100nm node ArF excimer laser lithography;
用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术
2.
Process window improvement is presented due to off-axis illumination(OAI) and phase-shifting mask(PSM) for 193 nm immersion lithography at 65 nm node.
研究了交替型相移掩模及离轴照明对65nm分辨率ArF浸没式光刻的影响。
5) mask methods
掩模法
6) Image masking
图象掩模
参考词条
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。