1) Fe-Ni-N thin film
Fe-Ni-N薄膜
1.
Fe-Ni-N thin films were prepared on glass substrates by dual ion-beam sputtering.
用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜,研究了Ni含量、主源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构、磁性及热稳定性的影响,选择合适的工艺条件,可制得在(100)面方向有100％晶粒取向度的单-γ'-(Fe,Ni)4N相。
2) Fe-Ni film
Fe-Ni薄膜
3) Fe-N thin films
Fe-N薄膜
1.
Effects of substrate temperature on structure,morphology and magnetic properties of Fe-N thin films;
衬底温度对Fe-N薄膜结构、形貌及磁性能的影响
2.
Effect of bias voltage on the structure and properties of Fe-N thin films prepared by direction current magnetron sputtering;
偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响
3.
The Fe-N thin films were deposited on single crystal NaCl(100) and glass substrates via DC magnetron sputtering with an Ar/N2 gas mixture(N2/(Ar+N2)=10%) as the discharging gas.
采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%),在玻璃和NaCl(100)单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品。
4) Fe-N films
Fe-N 薄膜
1.
The effect of nitrogen partial pressure on the structures and magnetic properties of Fe-N films was investigat.
Fe-N 薄膜因其具有高饱和磁化强度、低矫顽力,有望获得较高的微波磁导率,而在集成化微磁器件、抗电磁干扰以及新型雷达波吸收材料研究中受到广泛和高度的重视。
2.
The effects of preparation conditions on the structures andmagnetic properties of Fe-N films and the relation between the saturationmagnetization and film thickness were investigated in detail.
采用射频磁控溅射法制备了具有高饱和磁化强度的 Fe-N 薄膜。
5) Ni-Fe/Co-Fe thin film
Ni-Fe/Co-Fe薄膜
6) Fe-N-O thin films
Fe-N-O薄膜
补充资料：W-Ni-Fe alloy
分子式：
CAS号：
性质：一类重要的钨基重合金。它们是在钨中添加镍、铁而组成的合金，以及在这个基础上再加入其他金属元素的合金。加入的镍铁比一般为7：3或1：1。这类合金应用极广，已经成为用量最大的主要钨基重合金。其特点是烧结密度高，强度与塑性均较好，有一定的铁磁性。合金作为一般应用，如配重、平衡锤、防辐射屏蔽装置等，都直接使用烧结合金；但如作为要求高机械性能的应用时，合金则需变形加工及热处理以达到强化。
CAS号：
性质：一类重要的钨基重合金。它们是在钨中添加镍、铁而组成的合金，以及在这个基础上再加入其他金属元素的合金。加入的镍铁比一般为7：3或1：1。这类合金应用极广，已经成为用量最大的主要钨基重合金。其特点是烧结密度高，强度与塑性均较好，有一定的铁磁性。合金作为一般应用，如配重、平衡锤、防辐射屏蔽装置等，都直接使用烧结合金；但如作为要求高机械性能的应用时，合金则需变形加工及热处理以达到强化。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条