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1)  double glow plasma molybdenizing
双辉等离子渗Mo
2)  double glow plasma surface molybdenizing
双层辉光等离子表面渗Mo
3)  the double glow plasma surface alloying with tungsten-molybdenum
双层辉光离子渗W-Mo
4)  double glow plasma infiltration of Cr-Mo
双层辉光离子Cr-MO共渗
5)  double glow plasma chromizing
双辉等离子渗铬
1.
Low temperature double glow plasma chromizing process of T8 steel was studied.
研究了 T8钢低温双辉等离子渗铬工艺 ,分析了改性层的显微组织和相结构 ,测量了改性层的厚度、硬度及铬浓度分布 ,并对改性层进行了划痕检验。
6)  double-glow plasma carburization
双辉等离子渗碳
1.
Ti(C,N)-based cermets were prepared by vacuum liquid sintering and then heat-treated by double-glow plasma carburization.
通过真空液相烧结制备出Ti(C,N)基金属陶瓷基体,并对基体表面进行双辉等离子渗碳处理。
补充资料:等离子体双液体模型


等离子体双液体模型
two - liquid plasma model

  。八取。e,,Mo八e二‘n”臼M“l 一种流体动力学模型,在其中等离子体被看作是由两种互相穿透运动的“液体”(电子和离子的液体)组成的.等离子体的电阻被认为是这些液体之间相互摩擦的结果. 按电子只受电子压p。作用而离子只受离子压几作用的假设,运动方程组有形式 业1竺址_一。丁E一李:v_、Hl!+ dt一(一“‘’尸一’少 VP。。__,、, 一-兰二生一Rn,(V一V、.门) 刀e 攀一{二告:一小 VP,n__,、, 一-二止生七一Rn_(V一V_)fZ) 儿,电子和离子之间的相互作用是通过摩擦力来考虑的,该力正比于速度差与运动减速粒子的浓度之乘积.量R称为相互摩擦系数或扩散阻力系数.考虑到等离子体的类中性条件(”。二Zn,=”),等离子体双液体模型的运动方程化为形式 dV 11 二分=一含V尸+:子二[j xH], d tP’J’Pe其中 儿MV.+”_mV_ V=.‘二二二~‘-‘--‘二里止二‘‘乙 Mn,+水n。是平均质量速度,p一p,+几是总压力,而j二e(Zn,V一n。V。)是离子流.如果m/M<  
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