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1)  via fill plating
导通孔填孔
2)  through hole filling
通孔填孔
1.
The paper describes that achieves through hole filling by accelerator-free formulas in DC plating.
文章介绍了采用不含加速剂的直流电镀方案来实现通孔填孔技术,并提出通孔填孔的可能电化学机理。
3)  via fill
通孔填充
4)  filled via and stacked via
堆积导通孔和填充导通孔
5)  via filled copper plating
镀铜层填充导通孔
6)  filler point
填孔导纱器
补充资料:第二孔(继发孔)型缺损


第二孔(继发孔)型缺损
ostium secondary defect

是心房间隔在形成上发生障碍,一般缺损较大,多在卵圆孔附近称第二孔(继发孔)型缺损。
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参考词条