1) argon gas distribution
氩气分布
2) Ar pressure
氩气分压
1.
Effect of Ar pressure and film thickness on the microstructure and stress properties of Al films;
氩气分压与膜厚对溅射Al膜微结构及应力的影响
2.
Al films, grown on Si wafers by DC magnetron sputtering, were studied with X-ray diffraction and optical phase-shift technology at different Ar pressures.
在不同氩气分压下,用直流溅射法在室温Si基片上制备了不同厚度的Al膜。
3) Argon purity analyzer
氩气纯度分析仪
4) argon gas
氩气
1.
On-line analysis of trace water and oxygen in argon gas;
氩气中微量氧和水的在线分析
2.
Based on the working principles of gas chromatograph, DHP-05 type argon purity analyzer is applied to take overall analysis on the impurity gases of H2、O2、N2、CH4、CO、CO2 in the argon gas generated in air separator.
根据气相色谱分析的工作原理,运用DHP-05型氩气纯度分析仪对空分设备提取氩中的杂质气体—H2、O2、N2、CH4、CO、CO2进行全分析,通过对多年的氩气分析实践经验进行总结,阐述了气流波动、有机物变化、极化电压等各因素对氩气纯度分析的影响情况,并针对各因素的性质和特点,分别采取相应的措施进行调整和处理,从而找到氩气纯度分析的最佳工作条件,对仪器的一些不足之处进行了相应的改进,提高了氩气分析的准确性、重复性和及时性。
3.
The ion nitriding process with argon gas passing through hot-work die steel H13 was stated.
介绍了将氩气通入热作模具钢—H13钢的离子渗氮过程,用体视显微镜、光学显微镜、硬度计及X衍射分析仪等仪器,分析了氩气氛离子渗氮对H13钢渗层及其热疲劳性能的影响。
5) argon
[英]['ɑ:ɡɔn] [美]['ɑrgɑn]
氩气
1.
The Plan of Raising Quality and Output of the Argon;
提高氩气质量和产量的方法
2.
On-line analysis of impurities CO in loop of argon;
氩气回路中杂质CO的在线分析方法
3.
Effect of Argon Plasma Treatment on Mechanical Properties of Pylen Separating Membrane;
氩气等离子体处理对丙纶隔膜力学性能的影响
6) Ar
氩气
1.
Influence of Ar and Nz Flow Ratio on TiN Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
氩气与氮气流量比对磁控溅射法制备TiN薄膜的影响
2.
The mol heat contain ratio of Ar, O 2 and CO 2 gas is quickly measured and treated by a computer.
用计算机快速采集和处理数据,测量了氩气、氧气、二氧化碳气体的摩尔热容比,结果表明:对单原子分子气体实验值与理论值很好地一致;对多原子分子气体实验值与理论值有一定的偏差,说明能均分定理存在一定的局限性。
3.
The effect on the output power was studied,with different import positions,different dilution ratios and different buffer gases,N2,Ar,and CO2.
研究了稀释气进气位置、稀释比以及氮气、二氧化碳、氩气作为稀释气对kW级立式N2-COIL输出功率的影响。
补充资料：氩39-氩40法测年
分子式：
CAS号：
性质：将含钾样品放入核反应堆中接受快中子照射，40K核被打进一个中子，而后放出一个质子，形成39Ar，用质谱计测定被照射样品的40Ar/39Ar比值，代替常规钾-氩法中40Ar/40K比值，从而计算出样品年龄的方法，计算公式如下：t=λ-1ln(1+J•40Ar/39Ar)。式中J=39Ar/40Ar•λ/λkΔT∫φ(ε)σ(ε)dε是样品照射持续的时间，Ф(ε)是能量为ε时的中子通量，σ(ε)为39K(n，p)39Ar的反应截面，实验中用一已知年龄(ts)的标准与待测样品一块进行辐照，由下式求得J值：J=(eλt-1)/(40Ar/39Ar)。此方法解决了过去钾、氩分别由不同方法测定所产生的不同误差使年龄精度较低的弊端；同时由于照射后样品氩的释放可采用阶段加温方法，对一个样品便可获得一系列的表面年龄，最终得到代表矿物或岩石结晶的稳定坪年龄；或由等时线法处理得到样品的年龄、认识外来氩的混入状况。
CAS号：
性质：将含钾样品放入核反应堆中接受快中子照射，40K核被打进一个中子，而后放出一个质子，形成39Ar，用质谱计测定被照射样品的40Ar/39Ar比值，代替常规钾-氩法中40Ar/40K比值，从而计算出样品年龄的方法，计算公式如下：t=λ-1ln(1+J•40Ar/39Ar)。式中J=39Ar/40Ar•λ/λkΔT∫φ(ε)σ(ε)dε是样品照射持续的时间，Ф(ε)是能量为ε时的中子通量，σ(ε)为39K(n，p)39Ar的反应截面，实验中用一已知年龄(ts)的标准与待测样品一块进行辐照，由下式求得J值：J=(eλt-1)/(40Ar/39Ar)。此方法解决了过去钾、氩分别由不同方法测定所产生的不同误差使年龄精度较低的弊端；同时由于照射后样品氩的释放可采用阶段加温方法，对一个样品便可获得一系列的表面年龄，最终得到代表矿物或岩石结晶的稳定坪年龄；或由等时线法处理得到样品的年龄、认识外来氩的混入状况。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条