1) Silicon grating foil
Si刻蚀膜
1.
Silicon grating foil used to analyze the image transfer function in XUV radiography system;
XUV成像系统中像传递函数研究用的Si刻蚀膜
2) etching of deep Si trenches
Si深槽刻蚀
3) porous alumina embrane
径迹蚀刻膜
4) etch for hull
信号膜蚀刻
5) DF-CCP
SiCOH薄膜刻蚀
1.
12MHz/2MHz、60MHz/2MHz dual-frequency capacitively couple plasma (DF-CCP) of CHF3 and the etching of SiCOH film.
与传统SiO2介质的刻蚀相比较,由于SiCOH薄膜中存在孔隙,因此刻蚀率随着薄膜密度的降低而增加,从而导致薄膜粗糙度增加、侧向微枝结构的形成和刻蚀深度发生改变,结果难以实现SiCOH薄膜刻蚀过程的精确控制。
6) multi-layer etching
多层膜刻蚀
补充资料：刻膜
分子式：
CAS号：
性质：在制作原图时，把不透明涂层从刻图基片材料上刻掉的工艺。
CAS号：
性质：在制作原图时，把不透明涂层从刻图基片材料上刻掉的工艺。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条