1) continuous illuviation
连续淀积
2) discontinous illuviation
不连续淀积
3) continuous precipitation
连续沉淀
4) discontinuous reaction
非连续沉淀
1.
The results show that the discontinuous reaction proceeded not only by a conventional cellular reaction controlled by the migrating of the grain boundary, but also a autocatalytic cellular reaction occurring in the grain.
结果表明:Zn Al40合金非连续沉淀既可发生受晶界迁移控制的常规胞状反应,形成片层相间的α Al+η Zn平衡组织,又可在晶内自发形核生长,发生自催化胞状反应,形成α Al基体上分布岛状的η Zn平衡组织。
5) discontinuous precipitation
不连续沉淀
1.
In addition, discontinuous precipitation often occurs in the later stage during aging, which .
另外,合金时效后期易产生不连续沉淀,导致合金的强度、抗腐蚀性等性能大大降低。
6) successive sedimentation method
连续沉淀法
补充资料：化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中，由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2，Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长，特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD（MOCVD）。
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参考词条