1) continuous electrodeposition
连续电沉积
1.
In order to prepare the continuous porous metal by electrodeposition, a mathematical model of continuous electrodeposition of strip porous metal under steady state was deduced,based on the transition from time variable to location variable.
采用电沉积方法制备连续多孔金属 ,通过把电流密度随时间的变化转换为镀区内的位置分布 ,建立了稳恒状态下高孔率带状多孔金属连续电沉积动态模型 ,推导出表观电流密度分布的数学表达式 。
2) continuous stepped electrodeposition
连续分步电沉积
1.
Three kinds of methods including electrochemical infiltration, continuous stepped electrodeposition and coelectrodeposition are introduced in detail.
综述了近年来电化学方法制备金属基复合材料的研究进展,具体介绍了电化学渗浸、连续分步电沉积和复合电沉积3种不同的电化学工艺过程。
3) continuous deposition
连续沉积
1.
As a result,the continuous deposition can be realized for different substrates under different conditions after only one time of the hot filament carbonization.
首先对热丝化学气相沉积(Chem ica l vapor depos ition,CVD)系统进行改造,设计了在真空室外对室内试样进行操纵的机械手系统和储料台,实现了一次热丝碳化后完成多个不同工艺条件下试样的连续沉积。
4) incontinuous deposition
非连续沉积
1.
The effect of incontinuous deposition on the cyclic oxidation behavior of EB-PVD TBCs was investigated in this study.
通过EB-PVD非连续沉积工艺方法沉积制备了热障涂层中的YSZ涂层,同时比较研究了非连续沉积与正常沉积热障涂层在1100℃下的循环氧化性能。
5) sedimentary continuity
沉积连续性
6) distributed and continuous PECVD
分室连续沉积
补充资料：电沉积层织构
分子式：
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条