2) atmospheric argon
大气氩
3) Ar pressure
氩气分压
1.
Effect of Ar pressure and film thickness on the microstructure and stress properties of Al films;
氩气分压与膜厚对溅射Al膜微结构及应力的影响
2.
Al films, grown on Si wafers by DC magnetron sputtering, were studied with X-ray diffraction and optical phase-shift technology at different Ar pressures.
在不同氩气分压下,用直流溅射法在室温Si基片上制备了不同厚度的Al膜。
4) Argon pressure
氩气压
1.
The Influence of sputtereing argon pressure and power on the properties of DyFeCo amorphous film are discussed.
本文采用射频磁控溅射方法制备了ＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压，溅射功率对ＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响，实验表明：反射率随氩气压升高而降低，矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减少，高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差，本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减少。
5) argon atmosphere at reduced pressure
减压氩气
1.
Influence of matrices on electron temperature of laser micro-plasma in argon atmosphere at reduced pressure;
减压氩气下基体对激光微等离子体电子温度的影响
6) argon gas
氩气
1.
On-line analysis of trace water and oxygen in argon gas;
氩气中微量氧和水的在线分析
2.
Based on the working principles of gas chromatograph, DHP-05 type argon purity analyzer is applied to take overall analysis on the impurity gases of H2、O2、N2、CH4、CO、CO2 in the argon gas generated in air separator.
根据气相色谱分析的工作原理,运用DHP-05型氩气纯度分析仪对空分设备提取氩中的杂质气体—H2、O2、N2、CH4、CO、CO2进行全分析,通过对多年的氩气分析实践经验进行总结,阐述了气流波动、有机物变化、极化电压等各因素对氩气纯度分析的影响情况,并针对各因素的性质和特点,分别采取相应的措施进行调整和处理,从而找到氩气纯度分析的最佳工作条件,对仪器的一些不足之处进行了相应的改进,提高了氩气分析的准确性、重复性和及时性。
3.
The ion nitriding process with argon gas passing through hot-work die steel H13 was stated.
介绍了将氩气通入热作模具钢—H13钢的离子渗氮过程,用体视显微镜、光学显微镜、硬度计及X衍射分析仪等仪器,分析了氩气氛离子渗氮对H13钢渗层及其热疲劳性能的影响。
补充资料：氩气
Ar 见稀有气体。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条