1) maskless etch
无掩模腐蚀
2) etching mask
腐蚀掩模
4) etching all-metal mask
腐蚀全金属掩模
5) Si three dimensional maskless etching technology
硅三维结构的无掩模腐蚀技术
1.
The first developed technologies, including the self aligned quasi three dimensional fabrication technology, Si three dimensional maskless etching technology and Si/Si low temperature direct bonding technology were mainly.
本文总结了三个单位为时数年在微机械技术方面的研究成果，重点介绍我们首创的三项技术，即自对准的准三维加工技术，硅三维结构的无掩模腐蚀技术和硅／硅低温直接键合技术，也提到我们开展过的其他几项微机械技术以及所制作的几种微机械器件的参数或结果。
6) Non-mask etch of n-GaAs
n-GaAs无掩模刻蚀
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条