1) metal-etched photomask
金属腐蚀的光刻掩模
2) etching all-metal mask
腐蚀全金属掩模
3) photoresist masked etching
光刻胶掩蔽腐蚀
4) metal etch resist
金属腐蚀用光刻胶
5) photometallic etching
光金属蚀刻
6) etching mask
刻蚀掩模
1.
Photoresist was used as etching mask for HgCdTe inductively coupled plasma(ICP) enhanced reactive ion etching(RIE) process.
文章报道了HgCdTe微台面列阵ICP干法刻蚀掩模技术研究的初步结果。
2.
The etching mask for polymeric optical waveguide are systematically investigated.
主要针对聚合物波导制备中的关键技术———刻蚀掩模,进行了系统的研究。
补充资料：金属玻璃掩模
分子式：
CAS号：
性质： 以不透光金属薄膜选择地覆盖在玻璃基片上构成的光学掩模版。
CAS号：
性质： 以不透光金属薄膜选择地覆盖在玻璃基片上构成的光学掩模版。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条