1) double dielectrics gate
双介质栅
2) double layer gate dielectric
双层栅介质
3) SiO_xN_y gate dielectrics
SiOxNy栅介质
4) gate dielectric
栅介质
1.
In this paper, the carrier mobility, source voltage, current in channel, and avalanche generation under the gate dielectric of VDSM n-channel Si-MOSFET are analyzed by changing the gate voltage, the source voltage, the drain voltage and the thickness of gate oxide.
通过改变Si-MOSFET的栅电压、源电压、漏电压和栅氧化层厚度等参数,分析和求解栅介质下载流子迁移率、沟道内电流密度、电场、雪崩产生密度以及隧穿电流的变化,得出当源、漏偏压分别为0。
2.
The reliability of strain silicon,gate dielectric and copper interconnection are discussed,and some new researches are presented.
简介了应变硅材料、栅介质的工艺及铜互连的可靠性,并对新的研究方向做了介绍。
3.
The method of modulating the gate dielectric growth,the intrinsic gettering technique and low temperature annealing technique were applied to eliminate harmful backgrounds.
对电荷耦合器件(CCD)交流成像中存在的背景发白、亮条、亮点、拖影和固定图像噪声等不良背景进行了分析,并提出了调整栅介质生长方法、本征吸杂、低温退火等消除不良背景的具体工艺方法,获得了高质量的CCD器件。
5) dielectric grating
介质栅
1.
Characteristics of electromagnetic band-gap structure with stratified crossed dielectric gratings;
交错叠层型介质栅电磁带隙结构的特性
2.
A new type of dielectric grating waveguide filter based on left-handed material(LHM) was proposed and its band-rejected characteristics were carefully analyzed by a method which combines the rigorous mode matching procedure with multimode network method.
提出了一种新型的基于左手介质的介质栅波导阻带滤波结构,并采用多模网络与严格模匹配相结合的方法,对该左手介质栅波导阻带滤波特性进行仔细严格的分析;给出了主模的B rillou in图,以及滤波结构的归一化中心频率、阻带的宽度和带内最大衰减等特性和结构参数的关系,并与传统右手介质栅波导作了比较,说明了产生两者不同特性的原因。
6) SiO2 gate dielectrics
SiO2栅介质
1.
Some problems of SiO2 gate dielectrics, requirements for high k materials as MOSFET gate dielectrics and the latest development of high k gate dielectrics instead of traditional SiO2 were reviewed.
综述了超薄SiO2栅介质层引起的问题、MOS栅介质层材料的要求、有希望取代传统SiO2的高k栅介质材料的研究进展。
补充资料：绝缘栅双极型晶体管
绝缘栅双极型晶体管
insulated gate bipolar transistor,IGBT
IGBT作为开关使用时，为使通态压降UcE低，通常选择为氏E值为10一15v，此情况下通态压降接近饱和值。UGE值影响短路破坏耐量(时间)，耐量值为微秒级，UG。值增加，短路破坏耐量(时间)减少。门极电阻R。的取值影响开关时间，RG值大，开关时间增加，单个脉冲的开关损耗增加。但RG值减小时，di/dt增大，可能会导劲GBT误导通。R殖一般取几十欧至几百欧。 主要参数Ic为集电极额定最大直流电流;U(BocES为门极短路时的集一射极击穿电压;尸C为额定l日ey日onshon shuong]!x一ng}ing丈}guon绝缘栅双极型晶体管(insulatedgate biPolartransistor，IG召T)一种场控自关断的电力电子器件，又称绝缘门极双极型晶体管。此种晶体管在80年代迅速发展起来。IGBT的等效电路、图形符号如图(a)所示，图(b)、(c)分别为其转移特性和输出特性。IGBT的输人驱动级为N沟道增强型绝缘栅场效应晶体管MOSFET，输出级为电力晶体管(GTR)，形成达林顿晶体管电路结构。因此IGBT兼有MOSFET高输人阻抗、快开关速度和GTR的高电流密度、低通态压降的优点，但IGBT的门极偏置(又称栅极偏置)对特性影响很大。 门极偏置IGBT的导通和关断是由门极电压控制的。如图(b)所示，当门极电压UGE大于N沟道MOSFET的闭值电压(开启电压)UGE(th)时，MOSFET导通，从而给PNP管提供基极电流而使其导通;当门极电压小于氏E(th)时，MOSFET关断，PNP管无基极电流流过而截止。如图(。)所示，当IGBT导通时，工作在特性曲线电流上升区域，UGE增大时，UcE值减小。的最大耗散功率;UcE(sat)为集一射极间的饱和压降;IcE(、，为门极短路时集电极最大关断电流;Rth为结壳间的最大热阻;T为最高工作温度。 发展表中列出了各代IGBT器件的典型特性参数。IGBT发展非常迅速，正在向高频、高压、大电流以及降低器件的开关损耗和通态损耗方向发展。已研制出电压高达RN任于二Go一』(a)它珑功勺(b)鲡电为50O0V，10DA/emZ流密度下UCE、。认，E，鲡鲡2.SV左右的IGBT。IGBT、功率MOSF-ET发展前景广阔，已成为中、小功率低压应用领域的主导器件。由于IGBT特性参数优越，，预计2000年功率达IMVA的GTR和GTO逆变器，将被IGBT逆变器所替代。UOE】>陇E，<呱ES (e)IGBT等效电路、图形符号 和特性曲线 (a)等效电路、图形符号;(b)转移特性;(。)输出特性各代IGBT器件的典型特性参数表
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条