1) MOSFET-gate dielectric
MOSFET栅介质
1.
The new research of MOSFET-gate dielectric was summarized.
本文综述了MOSFET栅介质的最新研究状况。
3) SiO_xN_y gate dielectrics
SiOxNy栅介质
4) gate dielectric
栅介质
1.
In this paper, the carrier mobility, source voltage, current in channel, and avalanche generation under the gate dielectric of VDSM n-channel Si-MOSFET are analyzed by changing the gate voltage, the source voltage, the drain voltage and the thickness of gate oxide.
通过改变Si-MOSFET的栅电压、源电压、漏电压和栅氧化层厚度等参数,分析和求解栅介质下载流子迁移率、沟道内电流密度、电场、雪崩产生密度以及隧穿电流的变化,得出当源、漏偏压分别为0。
2.
The reliability of strain silicon,gate dielectric and copper interconnection are discussed,and some new researches are presented.
简介了应变硅材料、栅介质的工艺及铜互连的可靠性,并对新的研究方向做了介绍。
3.
The method of modulating the gate dielectric growth,the intrinsic gettering technique and low temperature annealing technique were applied to eliminate harmful backgrounds.
对电荷耦合器件(CCD)交流成像中存在的背景发白、亮条、亮点、拖影和固定图像噪声等不良背景进行了分析,并提出了调整栅介质生长方法、本征吸杂、低温退火等消除不良背景的具体工艺方法,获得了高质量的CCD器件。
5) dielectric grating
介质栅
1.
Characteristics of electromagnetic band-gap structure with stratified crossed dielectric gratings;
交错叠层型介质栅电磁带隙结构的特性
2.
A new type of dielectric grating waveguide filter based on left-handed material(LHM) was proposed and its band-rejected characteristics were carefully analyzed by a method which combines the rigorous mode matching procedure with multimode network method.
提出了一种新型的基于左手介质的介质栅波导阻带滤波结构,并采用多模网络与严格模匹配相结合的方法,对该左手介质栅波导阻带滤波特性进行仔细严格的分析;给出了主模的B rillou in图,以及滤波结构的归一化中心频率、阻带的宽度和带内最大衰减等特性和结构参数的关系,并与传统右手介质栅波导作了比较,说明了产生两者不同特性的原因。
6) SiO2 gate dielectrics
SiO2栅介质
1.
Some problems of SiO2 gate dielectrics, requirements for high k materials as MOSFET gate dielectrics and the latest development of high k gate dielectrics instead of traditional SiO2 were reviewed.
综述了超薄SiO2栅介质层引起的问题、MOS栅介质层材料的要求、有希望取代传统SiO2的高k栅介质材料的研究进展。
补充资料：高压功率MOSFET门极驱动电路
高压功率MOSFET门极驱动电路
high voltage power MOSFET gate driver
gooyo gongl口MOSFET men}{目udongd一on{日高压功率MOSFE丁门极驱动电路(highvoltage Power MOSFET gate driver)用来开关高压电路中功率MOSFET的门极控制电路，又称高压浮动MOS门极驱动器。 对门极驱动电路的要求 (1)功率MOSFET位于高电位主电路中，而驱动电路位于低电位，因此一般需要电气隔离。、 (2)驱动门极的控制信号幅值应满足10~15V。由子功率MOSFET的门极与源极之间存在极间电容，故门极驱动必须提供该极间电容充放电所需的功率。(3)应具有一定的保护功能。 驱动电路的隔离方法 (l)光隔离:采用光祸合器，电路中每个功率MOSFET需要一个隔离电源，电路复杂，价格较贵，体积大，但开关很快，信号传播延时小。 (2)磁隔离:采用脉冲变压器，电路简单，费用可行，但对占空比很宽的脉冲信号进行祸合需要复杂的技术，信号频率较低时，变压器尺寸显著增加，寄生参数将会使快速开关波形畸变。 驱动电路技术发展很快，现已生产多种驱动IC芯片。进入90年代以来，一种高性能的新型高压浮动MOS门极驱动器IC芯片投人使用，使得MOS功率器件的门极驱动更加完善和易于实现。新型组件能直接驱动低电位开关，而且因具有悬浮输出，故又能直接驱动高电位开关。例如IR213o组件为六输出门极驱动器，在三相逆变电路中，用一片组件，一个千15V直流电源就可同时驱动六个功率MOSFET，使电路大为简化。它还具有以下性能:输出电阻值较小，门极极间电容可快速充放电，提高了功率器件开关速度，开关损耗低;在高频及最高允许工作电压下内部损耗较小。门极欠压、过压或负载电流超过预定峰值时，门极信号钳位于低电平，以保护功率开关器件。 绝缘栅双极型晶体管(I GBT)也属于门极电压驱动的功率器件，故上述的门极控制电路也适用于高电位的IGBT。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条