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1)  ion-assisted deposition(IAD)
离子辅助镀
2)  ion assisted electron beam PVD
离子辅助蒸镀
3)  plasma aided plating
等离子辅助镀
1.
A study is made on the optical films of three oxides prepared by the technique of plasma aided plating.
研究用等离子辅助镀技术 ,制备 3种氧化物光学薄膜 。
4)  Ion assisted deposition
离子束辅助镀膜
5)  ion source assisted coating
离子源辅助镀膜
6)  Ion beam sources
辅助镀膜离子源
补充资料:离子镀
分子式:
CAS号:

性质:镀料和镀件置于真空室中,在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气),使真空度保持在0.1~1Pa。接通负高压,使蒸发源(镀料;阳极)和镀件(阴极)之间放电,建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热,使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下,金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速,射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀,附着力好,可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。

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参考词条