1) photocarrier concentration
光生载流子浓度
1.
The general expressions of photocarrier concentration of a loophole HgCdTe PN junction under steady-state incidence is presented in this paper by solving the one-dimensional continuity equation of photocarriers.
通过求解一维 HgCdTe 环孔 PN 结连续性方程,得到了恒定辐照下光生载流子浓度的一般表达式,并对结果进行了分析讨论。
2.
Generalized solutions of photocarrier concentration are given in this pape
对一维情况下平面 PN 结的连续性方程进行了求解,给出了不同边界条件下光生载流子浓度的一般形式解,并对结果进行了分析讨论。
2) Carrier concentration
载流子浓度
1.
the relationship between two-wave coupling gain and carrier concentration in photorefractive LiNbO3 crystal is analyzed.
测量了不同Ｃｅ掺杂浓度Ｃｅ：ＬｉＮｂＯ３晶体二波耦合指数增益与载流子浓度的关系，实验结果与理论分析一致。
2.
37×10-4Ω·cm,carrier concentration of 1.
本研究中用电阻加热反应蒸发的方法制备ITO薄膜,测试了膜的厚度、电阻率、可见光透过率、载流子浓度和迁移率,讨论薄膜的厚度对薄膜光电性能的影响。
3) carrier density
载流子浓度
1.
Based on coupling-wave equation,two-segment DFB lasers have been analyzed,and implicit expression of their carrier density and emission wavelength has been obtained.
利用耦合波方程 ,对两段式DFB激光器进行理论分析 ,得出了激光器激射工作时两段载流子浓度和激射波长之间所满足的隐含表达式。
4) sheet carrier concentration
方块载流子浓度
1.
The experimental results indicated that with increasing the annealing temperature, the sheet carrier concentration decreased, and the Hall mobility increased rapidly.
发现在650-850℃温度范围内,随着退火温度的升高,样品的方块载流子浓度呈下降趋势,而载流子迁移率呈明显上升的趋势。
5) minority carrier concentration
少数载流子浓度
1.
In this paper the minority carrier concentration is calculated analytically with the varying of the temperature T,Ge fraction x and doping concentration.
采用解析的方法计算了少数载流子浓度与Ge组分x、温度T以及掺杂浓度N的关系。
2.
In this paper, the intrinsic carrier concentration, the minority carrier concentrationand the ratio of hole concentration to impurity concentration are calculated analyticallywith the varing of the temperature T, Ge fraction x and doping concentration.
本文在前人研究的基础上，利用解析方法研究了应变Si_(1-x)Ge_x层中本征载流子浓度、少数载流子浓度、p型杂质电离度与Ge组分x、温度T以及掺杂浓度N的关系。
6) intrinsic carrier concentration
本征载流子浓度
1.
In this paper,a model for the intrinsic carrier concentration is developed and the intrinsic carrier concentration is calculated analytically with the varying of the temperature T,Ge fraction x and doping concentration.
采用解析的方法研究了应变Si_(1-x)Ge_x层中本征载流子浓度n_i与Ge组分x、温度T、掺杂浓度N的定量依赖关系;拟合了价带有效态密度公式和重掺杂禁带变窄公式。
补充资料：光生载流子
分子式：
CAS号：
性质：用光照射半导体时，若光子的能量等于或大于半导体的禁带宽度，则价带中的电子吸收光子后进入导带，产生电子-空穴对。这种类型的载流子称为光生载流子。此过程称为光注入。光子能量与频率有关，每种频率的光，都是由同等能量的光子组成的，每个光子的能量等于普朗克常数(h=6.56×10-27J·S)与光的频率v的乘积。当光照射到半导体时，由于不同材料电特性的不同以及光子能量的差异，会产生不同的光电效应。利用半导体材料的光电效应可制造光敏电阻器。
CAS号：
性质：用光照射半导体时，若光子的能量等于或大于半导体的禁带宽度，则价带中的电子吸收光子后进入导带，产生电子-空穴对。这种类型的载流子称为光生载流子。此过程称为光注入。光子能量与频率有关，每种频率的光，都是由同等能量的光子组成的，每个光子的能量等于普朗克常数(h=6.56×10-27J·S)与光的频率v的乘积。当光照射到半导体时，由于不同材料电特性的不同以及光子能量的差异，会产生不同的光电效应。利用半导体材料的光电效应可制造光敏电阻器。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条