1) 193 nm lithography equipment
193nm光刻机
2) 193 nm photoresist
193nm光刻胶
1.
2-methyl adamantine-2-yl methacrylate and 2-ethyl adamantine-2-yl methacrylate are two important monomers of matrix polymer for 193 nm photoresist.
甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体。
4) nm optical lithography
193nm光学光刻
5) 193 nm projection lithography
193nm投影光刻
6) 193 nm laser
193nm激光
补充资料：alcobam nm
CAS：128-04-1
分子式：C3H6NNaS2
分子质量：143.20
中文名称：N,N-二甲氨基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠；N-二甲基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠盐；福美钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠,二水；二甲氨基荒酸钠；二甲氨二硫代甲酸钠
英文名称：Sodium N,N-dimethyl dithiocarbaminate；Carbamodithioic acid, dimethyl-, sodium salt；alcobam nm；carbam-s；dimethyldithio-carbamic aci sodium salt；dimethyl-carbamodithioic acid sodium salt；ddc；dimethyldithiocarbamic acid, sodium salt；dmdk；methyl namate；nocceler s；sharstop 204；sodium dimethylaminocarbodithioate
性状描述：白色晶状固体。熔点110-115℃。
生产方法：由二甲胺与二硫化碳加成得到二甲氨二硫代甲酸（[79-45-8]），再与氢氧化钠溶液成盐而得。
用途：该品为消毒杀菌剂，可制成1%药皂使用。也用做丁苯橡胶聚合终止剂。橡胶促进剂TMTD和农药福美双的中间体。
分子式：C3H6NNaS2
分子质量：143.20
中文名称：N,N-二甲氨基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠；N-二甲基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠盐；福美钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠,二水；二甲氨基荒酸钠；二甲氨二硫代甲酸钠
英文名称：Sodium N,N-dimethyl dithiocarbaminate；Carbamodithioic acid, dimethyl-, sodium salt；alcobam nm；carbam-s；dimethyldithio-carbamic aci sodium salt；dimethyl-carbamodithioic acid sodium salt；ddc；dimethyldithiocarbamic acid, sodium salt；dmdk；methyl namate；nocceler s；sharstop 204；sodium dimethylaminocarbodithioate
性状描述：白色晶状固体。熔点110-115℃。
生产方法：由二甲胺与二硫化碳加成得到二甲氨二硫代甲酸（[79-45-8]），再与氢氧化钠溶液成盐而得。
用途：该品为消毒杀菌剂，可制成1%药皂使用。也用做丁苯橡胶聚合终止剂。橡胶促进剂TMTD和农药福美双的中间体。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条