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1)  193nm Photoresist
193nm光阻
1.
Challenges on Oxide Etch with 193nm Photoresist;
193nm光阻对于绝缘体材料刻蚀工艺的挑战
2)  193 nm photoresist
193nm光刻胶
1.
2-methyl adamantine-2-yl methacrylate and 2-ethyl adamantine-2-yl methacrylate are two important monomers of matrix polymer for 193 nm photoresist.
甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体。
3)  193 nm lithography equipment
193nm光刻机
4)  nm lithography
193nm光刻
5)  193 nm laser
193nm激光
6)  nm optical lithography
193nm光学光刻
补充资料:光固阻焊印料
分子式:
CAS号:

性质:又称UV阻焊印料。有一定黏度的单组分或双组分绿色油墨状印料。甲组分由感光性树脂、活性稀释剂、填料、颜料、特种添加剂组成。将甲组分在预混合器中搅拌混合,再经三辊机碾磨均匀。乙组分为光敏引发剂。使用时按一定比例将甲乙两组分混合均匀,通过丝网漏印到印制板上,采用紫外光照射固化,在印制板上形成一层阻焊固化膜,把不需焊接的地方保护起来。焊接完成后,作为印制电路板上的永久性保护膜,使电路免受湿气和大气中污染物的影响,从而提高产品的可靠性,延长使用寿命。采用紫外光照射固化,克服了热固阻焊印料高温固化时易使电路板变形扭曲、有些元器件质量降低、耗能大、生产效率低等缺点,有利生产的自动化。广泛应用于需经波峰焊焊接和三防性能(防潮、防霉、防盐雾侵蚀)要求的计算机、电视机、收录机、精密仪器等电子产品的电路板制作上。

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参考词条