1) amorphous silicon nitride
无定形氮化硅
1.
Firstly,cluster models of defects in amorphous silicon nitride with and without doping special element,such as oxygen,sulfur,phosphorus,fluorine or chlorine,are built.
建立无定形氮化硅和氧、硫、磷、氟或氯掺杂氮化硅中缺陷的簇模型;根据第一性原理的密度泛函理论(DFT),对缺陷的簇模型结构优化并计算能量,得到缺陷俘获电荷过程的能量变化。
2) amorphous silicon nitride film
无定形氮化硅膜
3) amorphous silicon dioxide
无定形二氧化硅
1.
It is possible to raise the modulus of normal low modulus sodium silicate by adding some quantity of amorphous silicon dioxide (white carbon black), however the author's investigation showed that the quality of the hi-modulus sodium silicate obtained such way is not ideal for casting production.
一般低模数的水玻璃可以通过在其中加入一定量的无定形二氧化硅来提高模数,但研究表明,用这种方法调得的高模数水玻璃质量并不十分理想,在使用上存在很大问题。
4) amorphous silica
无定形二氧化硅
1.
However to convert kaolin into amorphous silica is a practicable and utilizable method.
采用常规的选矿方法不能有效地改善其色质状况，而将它转化为无定形二氧化硅产品是一种可行的利用途径。
2.
In this paper, the method of preparation of amorphous silica from serpentine and bentonite by sulfuric acid leaching in microwave field was investigated.
本文研究了微波辐照作用下，由蛇纹石、膨润土硫酸浸出制备无定形二氧化硅的方法；考查了反应时间、微波辐照强度、液固比、硫酸浓度、矿石粒度等因素对矿物浸出过程的影响；确定了酸浸最佳工艺条件；分析了制得的无定形二氧化硅的化学组成；研究了微波作用下蛇纹石的硫酸浸出动力学。
3.
The methods of preparation of organosilicon from amorphous silica have been studied.
本文研究了由无定形二氧化硅直接合成有机硅化合物的方法。
5) amorphous silica
无定形氧化硅
补充资料：无定形氮化硅膜
分子式： Si3N4
CAS号：
性质：一种无定形结构的绝缘膜，但也存在微晶结构。禁带宽度约5.0eV，密度3.lg/cm3，介电常数7.5，折射率2.05，电阻率约1012Ω·m。在缓冲氟化氢腐蚀液中的腐蚀速率0.5～1nm/min。采用直接氯化、蒸发、等离子增强化学气相沉积等方法制备，为半导体硅器件的优良钝化膜。
CAS号：
性质：一种无定形结构的绝缘膜，但也存在微晶结构。禁带宽度约5.0eV，密度3.lg/cm3，介电常数7.5，折射率2.05，电阻率约1012Ω·m。在缓冲氟化氢腐蚀液中的腐蚀速率0.5～1nm/min。采用直接氯化、蒸发、等离子增强化学气相沉积等方法制备，为半导体硅器件的优良钝化膜。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条