1) phase mask
相位掩模版
1.
Impact of phase masks stitching errors on the reflectivity of the chirped fiber Bragg grating;
相位掩模版接缝相差对光栅反射峰的影响
2) phase mask
相位掩模
1.
Study of diffraction action of phase mask for optical fiber grating fabrication;
制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究
2.
Fabricating technology of fiber grating with phase masks;
用相位掩模法制作光纤光栅的技术
3.
8% peak reflectivity is fabricated in B/Ge co doped fiber by 248 nm KrF excimer laser irradiated a phase mask.
本文报道了以２４８ｎｍ的ＫｒＦ准分子激光为光源，用相位掩模技术在Ｂ／Ｇｅ双掺光纤上研制出反射率９８。
3) phase mask
相位掩模板
1.
The chirped electron-beam written phase mask is fabricated by step-chirped method.
电子束刻蚀啁啾相位掩模板采用的是分步啁啾法,而掩模板制造过程中分步之间的接缝误差是啁啾光纤光栅产生时延纹波的一个重要因素。
4) phase-mask method
相位掩模法
1.
Fiber Bragg grating as Fabry-Perot cavity reflector has been successfully fabricated in a double-clad fiber by using phase-mask method,and a double-clad fiber laser with stable output has been developed.
采用相位掩模法在双包层光纤上直接写入光纤布拉格光栅,以此作为光纤激光器后腔镜,研制了稳定输出的掺镱双包层光纤激光器。
5) phase-only mask
纯相位掩模
6) random phase masks
随机相位掩模
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条