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1)  only-one random-phase mask
单随机相位掩模
2)  single random phase mask
单随机相位掩膜
3)  random phase masks
随机相位掩模
4)  double random-phase mask
双随机相位掩模
5)  phase mask
相位掩模
1.
Study of diffraction action of phase mask for optical fiber grating fabrication;
制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究
2.
Fabricating technology of fiber grating with phase masks;
用相位掩模法制作光纤光栅的技术
3.
8% peak reflectivity is fabricated in B/Ge co doped fiber by 248 nm KrF excimer laser irradiated a phase mask.
本文报道了以248nm的KrF准分子激光为光源,用相位掩模技术在B/Ge双掺光纤上研制出反射率98。
6)  phase mask
相位掩模版
1.
Impact of phase masks stitching errors on the reflectivity of the chirped fiber Bragg grating;
相位掩模版接缝相差对光栅反射峰的影响
补充资料:光学掩模版
分子式:
CAS号:

性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。

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参考词条