1) only-one random-phase mask
单随机相位掩模
2) single random phase mask
单随机相位掩膜
3) random phase masks
随机相位掩模
4) double random-phase mask
双随机相位掩模
5) phase mask
相位掩模
1.
Study of diffraction action of phase mask for optical fiber grating fabrication;
制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究
2.
Fabricating technology of fiber grating with phase masks;
用相位掩模法制作光纤光栅的技术
3.
8% peak reflectivity is fabricated in B/Ge co doped fiber by 248 nm KrF excimer laser irradiated a phase mask.
本文报道了以２４８ｎｍ的ＫｒＦ准分子激光为光源，用相位掩模技术在Ｂ／Ｇｅ双掺光纤上研制出反射率９８。
6) phase mask
相位掩模版
1.
Impact of phase masks stitching errors on the reflectivity of the chirped fiber Bragg grating;
相位掩模版接缝相差对光栅反射峰的影响
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条