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1)  4-direction line mask
四方向线型掩模
2)  templates with direction
方向性掩模
3)  guidance mask
导向掩模
1.
Based on Extension Field and given figure s guidance mask, edgels is grouped and linked.
本文提出了一种基于知觉组织和几何结构的边缘修复模型;首先从增强的图像中用微分算子提取边缘,然后通过特定形状的导向掩模,计算边缘端点的延拓矢量场,在此基础上对边缘进行编组连接;最后通过边缘重整,得到规则轮廓。
4)  direction model
方向模型
5)  Mask pattern
掩模方案
6)  double wire mask
双线掩模
补充资料:光学掩模版
分子式:
CAS号:

性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。

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参考词条