1)  SiGe HBT
硅锗异质结双极型晶体管
2)  SiGe
硅锗
1.
Great interest has been devoted to one-dimensional SiGe nanoscale materials including SiGe nanowire heterostructures and nanotubes for the preparation of nanoscale devices owing to the excellent electrical and optical properties and the good compatibility with the present sillcon-based micro-electronics industry.
一维硅锗纳米复合材料,主要包括硅锗纳米线异质结与纳米管,具有优异的电学、光学等性能,易与现代以硅为基础的微电子工业相兼容,所以在纳米器件等领域得到了广泛重视。
3)  SiGe
硅-锗
4)  Silicon/germanium
硅/锗
5)  CSiGe
碳硅锗
1.
A Theoretical Study of Structure and Aromaticity of CSiGe Tetramer Clusters;
碳硅锗四原子团簇结构和芳香性的理论研究
6)  SiGe thin films
硅锗薄膜
1.
Annealing research of SiGe thin films on insulator;
绝缘体上硅锗薄膜的退火研究
参考词条
补充资料：异质结双极型晶体管
    　　发射区、基区和收集区由禁带宽度不同的材料制成的晶体管。W.B.肖克莱于1951年提出这种晶体管的概念。70年代中期，在解决了砷化镓的外延生长问题之后，这种晶体管才得到较快的发展。最初称为"宽发射区"晶体管。其主要特点是发射区材料的禁带宽度EgB大于基区材料的禁带宽度EgE（图1）。图中 N代表能带宽的区域。从发射区向基区注入的电子流 Ip和反向注入的空穴流Ip所克服的位垒高度是不同的,二者之差为墹Eg＝EgE-EgB,因而空穴的注入受到极大抑制。发射极效率主要由禁带宽度差墹Eg决定，几乎不受掺杂比的限制。这就大大地增加了晶体管设计的灵活性。
　　
　　
　　图2为典型的NPN台面型GaAlAs/GaAs异质结晶体管的结构和杂质剖面图。这种"反常"的杂质剖面能大幅度地减小发射结电容（低发射区浓度）和基区电阻（高基区浓度）。最上方的N+－GaAs顶层用来减小接触电阻。这种晶体管的主要电参数水平已达到：电流增益hfe1000,击穿电压BV120伏，特征频率fT15吉赫。它的另一些优点是开关速度快、工作温度范围宽(-269～+350)。
　　
　　
　　除了NPN型GaAs宽发射区管外，还有双异质结NPN型GaAs管、以金属做收集区的NPM型GaAs和PNP型GaAs管等。另一类重要的异质结晶体管是 NPN型InGaAsP／InP管。InGaAsP具有比GaAs更高的电子迁移率,并且在光纤通信中有重要应用。异质结晶体管适于作微波晶体管、高速开关管和光电晶体管。已试制出相应的高速数字电路(I2L)和单片光电集成电路。
　　

说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。