1) fractional differential cover operator
掩模算子
2) mask operator
掩膜算子
1.
It uses mask operator to preprocess image before down-sampling.
该方法引入低通掩膜算子在空域对降采样前的图像做滤波预处理,抑制欠采样噪声。
3) Sobel Mask Operator
Sobel掩膜算子
4) subnet mask account
子网掩码计算
6) Microelectronic mask
微电子掩模板
1.
The line width, step height and line scales of microelectronic masks are three key parameters among five international calibration standards proposed by the nano-metrology group (WGDM7 DG) of Bureau International des Poids et Mesures (BIPM).
微电子掩模板的线宽、台阶高度、线间隔是国际计量局(BIPM)纳米计量工作组(WGDM7 DG)确定的五种基准样板国际比对关键量值中的三种,这几种掩模板参数的测量和标定是当前精密计量领域必须完成的课题。
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条