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1)  electron beam mask system
电子束掩模制造系统
2)  electron beam generated mask
电子束技术制造的掩模
3)  maskless electron beam coating equipment
无掩模电子束镀膜设备
4)  electron beam mask generator
电子束掩模图象发生器
5)  electron chrome mask
电子束光刻用铬掩模
6)  electron beam reticle
电子束掩膜
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:

性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。

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参考词条