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1)  photo CVD
光化学汽相淀积
2)  photox
光化学汽相淀积氧化物
3)  direct photo-CVD
直接光化学汽相淀积
4)  chemical vapor deposition
化学汽相淀积
1.
The design of system and technology for depositing silicon-nitride film microlenses by laser chemical vapor deposition (LCVD) are introduced.
本文介绍了采用激光化学汽相淀积(LCVD)技术淀积氮化硅薄膜微透镜的系统与工艺的设计。
5)  CVD
化学汽相淀积
1.
sing CH_4,CCl_4 and H_2 mixtures as source materials,We successfully synthe-sized diamond thin films at 570~580℃by the microwave plasma CVD process.
含卤素源物质的金刚石薄膜淀积曹传宝(复旦大学)彭定坤,孟广耀(中国科学技术大学)关键词:金刚石,微波等离子体,化学汽相淀积,四氯化碳。
2.
Oriented (100) diamond film is deposited on silicon substrate by adjusting process parameters without use of other assisted measures in hot-filament CVD system.
采用热丝化学汽相淀积 (CVD) ,未用别的辅助措施 ,合成了 (10 0 )晶面的金刚石膜。
6)  chemical vapor deposition film
化学汽相淀积膜
补充资料:3501射光青莲色淀
分子式:
CAS号:

性质:又称3501射光青莲色淀。深紫色粉末。着色力高,颜色鲜艳,显示金属铜光。密度2.15~2.30g/cm3。比表面积3.6~4.5m2/g。吸油量41~77g/100g。耐热150℃(10min)。将碱性紫5BN溶于水中,加入醋酸及磷钨钼酸,使其转为不溶性色淀,经过滤、漂洗,干燥得成品。主要用作黑色油墨的调色剂,明显提高其乌黑度,使印出的字迹清晰,也可用于文教用品中。

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参考词条