2) modified chemical vapor deposition process
改进的化学汽相沉积法<光>
3) chemical vapor deposition
化学汽相淀积
1.
The design of system and technology for depositing silicon-nitride film microlenses by laser chemical vapor deposition (LCVD) are introduced.
本文介绍了采用激光化学汽相淀积（LCVD）技术淀积氮化硅薄膜微透镜的系统与工艺的设计。
4) CVD
化学汽相淀积
1.
sing CH_4,CCl_4 and H_2 mixtures as source materials,We successfully synthe-sized diamond thin films at 570～580℃by the microwave plasma CVD process.
含卤素源物质的金刚石薄膜淀积曹传宝（复旦大学）彭定坤，孟广耀（中国科学技术大学）关键词：金刚石，微波等离子体，化学汽相淀积，四氯化碳。
2.
Oriented (100) diamond film is deposited on silicon substrate by adjusting process parameters without use of other assisted measures in hot-filament CVD system.
采用热丝化学汽相淀积 (CVD) ,未用别的辅助措施 ,合成了 (10 0 )晶面的金刚石膜。
6) chemical vapor deposition film
化学汽相淀积膜
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条