1) vacuum physical vapor deposition
真空物理气相沉积
2) ultra-high vacuum physical vapor deposition(UHVPVD)
超高真空物理汽相沉积
3) vacuum vapor deposition
真空气相沉积
1.
Two kinds of evaporating materials have been used to prepare Nano ZnO thin films by using vacuum vapor deposition .
采用真空气相沉积法 ,使用两种蒸发源制备纳米 Zn O薄膜 。
4) vapor phase deposition
真空气相沉积
1.
The gas sensing properties of Nd-doping nano-ZnO thin films,grown on glass substrates by vacuum vapor phase deposition,have been studied.
研究了用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备掺稀土Nd的ZnO薄膜的气敏特性,实验给出,经温度为500℃,时间为45min的氧化、热处理的掺Nd的ZnO薄膜的晶粒尺寸、结构特性均发生变化。
5) physical vapor deposition
物理气相沉积法
1.
Employing the physical vapor deposition method,Bi2O3 powder was heated to 1050 ℃ at normal pressure in a horizontal tube furnace with the protection of argon gas and oxygen,and then cooled and deposited naturally.
利用物理气相沉积法,在氩气和氧气保护下将氧化铋粉末在水平管式炉中常压加热至1050℃,然后降温沉积,在硅衬底上得到了大量具有规则矩形外形的二维纳米结构——片状氧化铋。
6) PVD
物理气相沉积
1.
PVD (Ti,Al) N Coating and Its Tooling Quality;
物理气相沉积(Ti,Al)N涂层刀具的切削性能
2.
Progress in Research on Corrosion Resistance of PVD Hard Coating;
物理气相沉积技术制备的硬质涂层耐腐蚀的研究进展
3.
NEW PVD COATING & DIFFUSING TECHNIQUE;
物理气相沉积镀渗新工艺
补充资料：物理气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：在真空下，将金属、合金或非金属及化合物等用物理方法气化为原子或分子或离化为离子，然后直接沉积在基体表面形成薄膜的技术。该工艺在真空下进行，所得膜的物理化学性能好，纯度高、致密、膜厚均匀，光洁度高，膜厚度易控制，镀膜材料和基体材料范围广，可制纯金属膜，成分复杂的合金膜、化合物膜，生产环境清洁、无废液、无公害污染。物理气相沉积方法，目前主要有真空蒸镀、离子溅射、离子镀(将上述两者相结合)。该技术已在工业上广泛应用；用于制备抗氧化、抗腐蚀、耐磨、润滑、装饰等结构镀层，也可制备光学、磁性、导电、压电和超导等特殊性能的功能膜。
CAS号：
性质：在真空下，将金属、合金或非金属及化合物等用物理方法气化为原子或分子或离化为离子，然后直接沉积在基体表面形成薄膜的技术。该工艺在真空下进行，所得膜的物理化学性能好，纯度高、致密、膜厚均匀，光洁度高，膜厚度易控制，镀膜材料和基体材料范围广，可制纯金属膜，成分复杂的合金膜、化合物膜，生产环境清洁、无废液、无公害污染。物理气相沉积方法，目前主要有真空蒸镀、离子溅射、离子镀(将上述两者相结合)。该技术已在工业上广泛应用；用于制备抗氧化、抗腐蚀、耐磨、润滑、装饰等结构镀层，也可制备光学、磁性、导电、压电和超导等特殊性能的功能膜。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条