1) RF Sputtering InSb Film
溅射InSb薄膜
2) sputtering thin films
溅射薄膜
1.
In this paper, the chlorobenzene treatment was adopted in lift-off process of Al and Au sputtering thin films with thickness of 0.
0UM的AL、AU溅射薄膜进行了剥离,分析了光刻胶厚度和薄膜厚度与剥离图形的关系,对剥离过程中氯苯浸泡工艺以及溅射工艺对剥离图形的影响进行了研究,并在2。
3) thin film sputtering
薄膜溅射
5) co-sputtered thin films
共溅射薄膜
6) sputtering Al films
溅射Al薄膜
补充资料：indium antimonide InSb
分子式：
CAS号：
性质：锑和铟的化合物。具闪锌矿型结构的晶体。金属锑和铟在高温熔合而得。重要的半导体材料之一。经熔炼提纯的单晶，可制成具有特殊性能的红外探测器件等。
CAS号：
性质：锑和铟的化合物。具闪锌矿型结构的晶体。金属锑和铟在高温熔合而得。重要的半导体材料之一。经熔炼提纯的单晶，可制成具有特殊性能的红外探测器件等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条