1) titanium diboride films
TiB_2膜
2) TiB2
TiB_2
1.
Based on extensive literature review and previous work in the author's group, further and deeper investigation was performed for cathode materials and technology with TiB2 composite coating.
为了克服我国预焙铝电解槽槽寿命过短的严重弊端，并且发展新型铝电解槽用惰性可润湿性阴极材料，本文在广泛的文献调查和前人工作基础上，对TiB_2复合阴极涂层材料和技术进行了深入的研究。
2.
TiB2 and Ti-B-N ultrahard thin films on Si substrates were prepared by ionized de-magnetron sputtering.
采用离子镀直流磁控溅射技术,在Si基体上制备了TiB_2和Ti-B-N系超硬薄膜涂层,并采用基体曲率法测量薄膜的残余应力。
3) TiB 2
TiB_2
1.
TiB 2/Al 4.5Cu Composite by Reaction of Mixed Salts in Molten Metal;
盐类反应制备TiB_2/Al-4.5Cu复合材料的研究
4) TiN/TiB_2 nanomultilayers
TiN/TiB_2纳米多层膜
5) TiN/AlON nano-multilayers
AlN/TiB_2纳米多层膜
补充资料：电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条