2) unbalanced magnetron sputtering
非平衡磁控溅射
1.
Characteristics of titanium-doped diamond-like carbon films deposited by unbalanced magnetron sputtering;
非平衡磁控溅射Ti掺杂类金刚石薄膜的基本特性
2.
The research on half-analytical method in calculating the magnetic field of unbalanced magnetron sputtering;
非平衡磁控溅射系统磁场的半解析法
3.
Effect of Al content on properties of Ti_(1-x)Al_xN hard film prepared by unbalanced magnetron sputtering;
Al含量对非平衡磁控溅射制备Ti_(1-x)Al_xN膜性能的影响
3) Magnetron/unbalanced
磁控溅射/非平衡
4) unbalanced coefficient of magnetron
磁控管非平衡度
1.
The SEM,surface roughness tester and XRD was used respectively to analyze the influence of unbalanced coefficient of magnetron on the growth of Cr film under the magnetron sputtering environment with direct current and single magnetron pattern.
采用扫描电子显微镜、表面粗糙度测试仪及X射线衍射仪分析了直流、单靶磁控溅射条件下磁控管非平衡度对Cr镀层生长过程的影响。
2.
SEM,surface roughness tester and XRD were used to analyze the influence of unbalanced coefficient of magnetron and closed-state of magnertic field on microstructure,surface roughness and preferred orientation of the Cr coatings.
利用非平衡磁控溅射离子镀技术于不同磁控管非平衡度和磁场闭合状态下在单晶硅基体上制备出Cr镀层,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪分析了不同生长阶段Cr镀层的微观形貌、表面粗糙度和晶体择优生长趋势的变化。
5) unbalanced magnetron sputtering(UBMS)
非平衡磁控溅射(UBMS)
6) unbalanced reactive magnetron sputtering
非平衡反应磁控溅射
1.
TiN/AlN nano-multilayer films were deposited by an ion-beam aided unbalanced reactive magnetron sputtering system.
采用一种新型的离子束辅助非平衡反应磁控溅射设备制备了TiN/AlN纳米多层复合膜。
补充资料：可控性与非可控性投入
可控性与非可控性投入
可控性与非可控性投人可控性投入指学校和教育行政部门可以控制的教育资源投入。学校可以对教学负担、班级规模、课程教学单元的数量、每个教师承担的学科教学任务的平均量等可控性投入进行调节和平衡，以改进教学质量。教育行政部门可以对教师的专业准备程度、教学经验、培训要求、教师工资、设备供应、生活费用、图书馆藏书等投入进行选择，以调节教育的供给与需求。而非可控性投入指学校和教育行政部门不能控制的教育资源投入。如学生的种族、性别、年龄及家长的社会经济背景等无法控制的因素对教育有着不同程度的影响。教育部门不能控制学生家长的教育水平和收入状况，但应当推动教育机会平等的社会经济环境的实现。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条