1) Copper plating/Electroless Copper plating
镀铜/化学镀铜
2) electroless copper
化学镀铜
1.
The disadvantages of common electroless copper plating process were pointed out.
通过对铜原子结构的分析,提出了得到良好结合力的化学镀铜层的可能性,进而给出了使用"考本"液在钢铁上直接化学镀铜的工艺。
3) electroless Cu plating
化学镀铜
1.
Satisfactory colored-films on iron craftworks were obtained by coloring process of electroless Cu plating at room temperature and chemical coloring in turn.
在铁制工艺品上先进行常温化学镀铜然后进行着色处理,获得了效果满意的着色层。
2.
The stability of the electroless Cu plating solution is higher and the deposition rate is 2.
研究了影响化学镀铜镀速和溶液稳定性的各因素 ,根据实验确定了适宜的化学镀铜液的配方及工艺规范。
4) chemical copper plating
化学镀铜
1.
Copper was reduced by formaldehyde which was contained in the effluent of chemical copper plating, and EDTA in the effluent was reclaimed after acidify.
探讨了利用原化学镀铜废液中的甲醛将铜还原 ,后酸化回收 EDTA的新工艺。
5) electroless plating copper
化学镀铜
1.
The effect of preparation process,content and particle size of graphite,additive elements,electroless plating copper coating technology on properties of the materials are reviewed,and friction and wear behavior of copper-graphite slid- ing contact materials is discussed.
综述了铜-石墨滑动触头材料的研究进展,包括制备工艺、石墨含量、石墨粒度、添加组分和化学镀铜包覆石墨因素对铜-石墨材料性能的影响以及铜石墨材料的摩擦学问题,最后指出了铜-石墨自润滑触头材料的发展趋势。
2.
The results indicate that the optimum process for the electroless plating copper is at temperature of 65 ℃ and in pH of 12.
采用化学镀方法对平均粒度为3μm的钼粉进行化学镀铜,温度和pH值分别控制在55~75℃和11。
6) electroless copper plating
化学镀铜
1.
Metallization and structure of copper layer on Al_2O_3 ceramic by electroless copper plating;
氧化铝陶瓷基板化学镀铜金属化及镀层结构
2.
Research progress on electroless copper plating;
化学镀铜的应用与发展概况
3.
Technology of electroless copper plating on ABS plastics;
ABS塑料化学镀铜工艺
补充资料：镀铜
镀铜
copper coating
dUtong镀铜(eopper eoating)在酸洗后的盘条(线坯)表面镀覆一层铜，以作为拉丝时的润滑载体。以铜层作润滑载体主要用在拉拔轮胎钢丝与气体保护焊丝等特殊场合，这时铜层除用作润滑载体外，可提高轮胎钢丝同橡胶的结合力和焊丝的导电性。此外也用于弹妥钢丝等的生产中，以改善拉拔时的润滑性能及产品的表面质量。 镀铜操作时，把盘条浸入加有一定硫酸和骨胶的硫酸铜溶液中。根据电位序，铁能置换铜: Fe+CuZ+-今Cu+FeZ+并很快发生下列反应和完成镀铜过程 Fe+CuSO;一FeSO‘+Cu专硫酸铜是溶液的主要镀剂，提供铜离子的来源，浓度通常控制在60一7馆/L。浓度过低，将延长镀铜时间且不易获得所需厚度的镀层;浓度过高，则铜的沉积速度过快，导致铜结晶迅速长大，使镀层疏松、粗糙，影响与基体的结合。硫酸的主要作用是活化盘条表面，使铜层能与基体牢固结合。骨胶有促使铜与基体粘合的作用，并使铜层结晶细密。镀铜时溶液温度必须控制在簇25℃，温度较低时，镀层光亮致密，但生产率低。温度过高时，则镀层厚，且粗糙、疏松、附着力差。溶液中Fe2+离子过多会恶化镀层质量。镀铜过程约在1一2而n内完成。 (韩观昌)
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参考词条