1) inorganic mesoporous films
无机介孔薄膜
2) inorganic dielectric thin film
无机介质薄膜
3) mesoporous films
介孔薄膜
1.
As advanced nanostructured materials, ordered mesoporous films have become one of the hot inter-disciplinar areas due to their relatively large surface area, highly order microstructures and widely applications in separation, optics, electron and magnetics, etc.
有序介孔薄膜作为一种新型的纳米结构材料,由于具有较大的比表面积和高度有序的微观结构,在吸附分离、光、电、磁等领域获得了广泛的应用,已成为近年来跨学科的研究热点之一。
4) mesoporous TiO_2 thin membrane
介孔TiO2薄膜
5) TiO_2 mesoporous thin film
TiO_2介孔薄膜
1.
TiO_2 mesoporous thin film has attracted much recent attention for its potential applications in areas such as photocatalysis, UV photoresponce, electrochromism device and photovoltaics, due to its larger surface area, highly organized mesoporous channels and semiconductive framework.
TiO_2介孔薄膜因其具有较大的比表面积、规则的孔道结构且孔壁具有光活性,因而在光催化、紫外光电检测、电致变色器件和太阳能电池等领域具有广阔的应用前景,关于TiO_2介孔薄膜的制备及其光电性能的研究已成为目前研究的热点。
补充资料：钽基介电薄膜
分子式：
CAS号：
性质：一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜，介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。
CAS号：
性质：一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜，介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条