1) ordered silica mesoporous thin films
有序SiO2介孔薄膜
1.
Various preparation methods and mechanism of ordered silica mesoporous thin films are reviewed in recent years.
本文从孔道定向性角度综述了高度有序SiO2介孔薄膜制备和机理的研究进展,并对介孔薄膜未来的发展进行展望。
2) Ordered mesoporous silica films
有序介孔SiO2薄膜
4) ordered mesoporous TiO_2 thin films
有序介孔二氧化钛薄膜
1.
However, the changing structure and point defects concentration of ordered mesoporous TiO_2 thin films by annealing at different temperature and annealing in different atmosphere, especially reduction atmosphere is paid less attention.
有序介孔二氧化钛薄膜具有巨大的比表面积和有序的介孔结构,在染料敏化太阳能电池,光催化剂等领域有光明的应用前景,因此被广泛的研究。
5) Mesoporous SiO2 film
介孔SiO2膜
1.
Mesoporous SiO2 film with 2D p6 mm structure was successfully coated on K9 glasses via the hydrolysis-condensation process and the so-called evaporation induced self-assembly process using P123 as a surfactant.
用P123作模板剂,通过正硅酸乙酯的水解缩聚和溶剂蒸发自组装过程在K9玻璃上制备介孔SiO2膜。
6) porous composite film of TiO2/SiO2
TiO2/SiO2介孔复合薄膜
补充资料：钽基介电薄膜
分子式：
CAS号：
性质：一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜，介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。
CAS号：
性质：一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜，介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条