1) crystalline silicon
晶化硅
1.
The crystalline silicon films on glass have been obtained under the substrate temperature of 300℃ using SiCl 4/H 2 mixture gases in a conventional radio frequency glow discharge plasma chemical vapor over deposition system.
通过与SiH4/H2沉积结果的对比 ,从基团成份、基团尺寸以及表面反应过程几个方面 ,对晶化硅薄膜低温生长的机制进行初步的探
2) Ge pre-am orphization
Ge预非晶化硅化物
3) crystallization
晶化
1.
Preparation of glass-ceramics for decorative building by cracked-glass crystallization technology;
裂纹玻璃晶化法制备建筑装饰用微晶玻璃
2.
Research on microstructure of Cu-based bulk metallic glass during crystallization;
Cu基块状非晶晶化过程的微观组织研究
3.
Preparation and crystallization of Fe_(73)Al_4Ga_2P_(12)B_4Si_4M_1 amorphous alloys;
Fe_(73)Al_4Ga_2P_(12)B_4Si_4M_1非晶的制备与晶化研究
4) crystallize
晶化
1.
XRD result shows that the sample is an amorphous phase annealed below 300℃; and it crystallizes into cubic nanocrystalline zirconia at 500℃.
粉末X射线衍射结果表明 ,30 0℃温度处理的样品呈非晶态 ,5 0 0℃时样品已经晶化 ,形成单一立方相的纳米结构 。
2.
The results indicated that the crystallizing temperature of BaNd2Ti5O14 was 509℃ and the size of the crystallized powders calcined at 800℃ for 2h was 50nm.
结果表明，自燃烧粉末的晶化峰温为 ５０９℃，在 ８００℃ 煅烧２ｈ即可得到晶化的一次颗粒＜５０ｎｍ的ＢａＮｄ２Ｔｉ５Ｏ１４粉末，并分析了产生温度差异的原因。
3.
The experiment results show that nanometer SiO 2 powder crystallizes to α -cristobalite with a little tridymite under normal pressure at 1 000~1 600 ℃,crystallizes to α -quartz under 2.
以纳米SiO2粉体为原料,在高压高温下研究其晶化过程。
5) crystalline
晶化
1.
Amorphous structure is changed into crystalline and the ratio of crystallize phases are obviously different from the alloy.
在晶化温度以上退火时 ,非晶态结构转变为晶态结构 ,而且α-Fe偏析明显增多 ,与制备粉末用的合金原料晶态相的各相比例明显不同 。
2.
In this paper,amorphous,microcrystalline and polymorphous silicon films were prepared by plasma enhanced chemical deposition.
根据拉曼光谱得到了微晶硅的晶化率,并在椭偏仪中用BEMA模型验证了其准确性。
6) crystallization
晶化处理
1.
Mg_(65) Cu_(25) Y_(10) alloy has the largest supercooled liquid regionΔT_x (=T_x-T_g, where T_x and T are the crystallization temperature and the glass transition temperature, respectively) and the best GFA in Mg-Ln-TM system.
对Mg基块体非晶合金的玻璃形成能力、晶化和熔化行为进行了分析，研究了非晶合金的硬度；对Mg-Cu-Nd-Y非晶条带的拉伸塑性进行了测试；对Mg_(65)Cu_(25)Nd_4Y_6块体非晶合金进行等温晶化处理，并研究了不同晶化工艺对合金的显微组织及性能的影响。
2.
This dissertation was proposed the viewpoint of the crystallization for glass substrate stuff and obtained lapping specially side .
本文提出了二步微晶化法方案作为微晶玻璃基板的最终的晶化处理工艺，并获取了具有最佳机械强度的基板材料。
参考词条
补充资料：氮化硅晶须补强碳化硅陶瓷复合材料
分子式：
CAS号：
性质：以碳化硅陶瓷为基体，以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它既保留了碳化硅陶瓷优良的耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、耐磨等性能，又具有比碳化硅陶瓷更高的强度和韧性，最高使用温度可达1400℃以上。由于氮化硅晶须与碳化硅陶瓷基体具有较好的物理相容性，化学性质相近，界面的结合力较强。该复合材料的烧结温度高，界面控制困难，成本高，主要用于航空、航天领域的高温部件。
CAS号：
性质：以碳化硅陶瓷为基体，以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它既保留了碳化硅陶瓷优良的耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、耐磨等性能，又具有比碳化硅陶瓷更高的强度和韧性，最高使用温度可达1400℃以上。由于氮化硅晶须与碳化硅陶瓷基体具有较好的物理相容性，化学性质相近，界面的结合力较强。该复合材料的烧结温度高，界面控制困难，成本高，主要用于航空、航天领域的高温部件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。