1) Fluorinated Carbon Films
含氟碳化膜
2) fluorinated carbon film
含氟碳膜
3) AIMn particle
含氟转化膜
4) chlorofluorocarbon [CFC]
含氯氟烃;氯氟碳化合物
5) fluorinated amorphous carbon film
氟化非晶碳薄膜
1.
As one of promising interlay dielectrics used in the future ULSI, fluorinated amorphous carbon film (a-C: F) has been attracted intensively.
利用静电探针和光强标定的发射光谱(AOES)研究了CHF_3、CHF_3／C_6H_6气体ECR放电等离子体的特性及氟化非晶碳薄膜(a-C：F)的结构与等离子体空间基团分布的关系。
6) a C:F
氟化非晶态碳膜
1.
Amorphous fluorinated carbon(a C∶F) films were grown on Si(100) substrate with plasma immersion ion implantation(PIII) in a mixture of CH 4 and CF 4 gases to study the influence of substrate bias voltage on various properties of the film,including its microstructures,its nano hardness and its hydrophobic properties.
为了研究基体负的低偏压Vb 对氟化非晶态碳膜的结构、纳米硬度和疏水性能的影响 ,采用等离子体浸没与离子注入装置 ,CF4和CH4作为气源 ,在不同的基体偏压下制备了一系列氟化非晶态碳膜。
补充资料：含钛碳化硅纤维
分子式：
CAS号：
性质：其组成为Si 51.0%，C 27.9%，O 17.7%，Ti 3.1%。纤维直径8.5～1.1μm，密度2.37g/cm3，拉伸强度2.9GPa，模量190GPa。制法是将含钛聚碳硅烷用烷氧基钛改性处理并熔纺，再于200℃以下空气中不熔化和在1000～1500℃的惰性气体中烧成。主要用作抗氧化的复合材料，应用于宇宙飞船和发动机结构材料等。
CAS号：
性质：其组成为Si 51.0%，C 27.9%，O 17.7%，Ti 3.1%。纤维直径8.5～1.1μm，密度2.37g/cm3，拉伸强度2.9GPa，模量190GPa。制法是将含钛聚碳硅烷用烷氧基钛改性处理并熔纺，再于200℃以下空气中不熔化和在1000～1500℃的惰性气体中烧成。主要用作抗氧化的复合材料，应用于宇宙飞船和发动机结构材料等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条