2) FN-DLC thin films
含氮氟化类金刚石薄膜
1.
Study on FN-DLC thin films:(Ⅱ)effect of radio frequency power on the optical band gap of the thin films;
以CF4,CH4和N2为源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同射频功率下制备了含氮氟化类金刚石薄膜样品。
3) FN-DLC
含氮氟化类金刚石膜
1.
Nitrogen doping of fluorinated diamond-like carbon(FN-DLC)thin films were prepared by radio frequency plasma enhanced chemical deposition(RF-PECVD)under different radio frequency power(RF-power)with CF_4,CH_4 and nitrogen as source gases.
以CF4,CH4和N2为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同功率下制备了含氮氟化类金刚石膜。
4) F-DLC films
氟化类金刚石薄膜
1.
The F-DLC films were prepared by reactive magnetron sputtering with trifluromethane (CHF_3) and Ar as source gases and pure graphite as a target.
以高纯石墨作靶、Ar/CHF3作源气体采用射频反应磁控溅射法室温下制备了氟化类金刚石薄膜(F DLC)。
5) FDLC
氟化类金刚石薄膜
1.
In this article,the latest development about FDLC is introduced generally.
综述了氟化类金刚石薄膜(FDLC)的近期进展,重点介绍搀杂氟对类金刚石薄膜在结构、性能及沉积工艺上所带来的影响。
2.
The emphasis is laid on the fluorinated diamond like film (FDLC) based on DLC,the influence of the incorporated fluorine on its structure, property and depositing process.
本文对类金刚石薄膜的近期进展进行了概括性介绍 ,重点介绍在此基础上发展起来的氟化类金刚石薄膜材料 (FDLC) ,包括氟元素对类金刚石薄膜 (DLC)在结构、性能及在沉积工艺上所带来的的影响等。
6) diamond-like fluorinated carbon
氟化类金刚石
1.
Structure, properties and applications of diamond-like fluorinated carbon films;
氟化类金刚石膜结构、性能及应用
补充资料：类金刚石膜
分子式：
CAS号：
性质：又称山膜。碳的一种亚稳态，组成主要是碳，也含有氢，其量随工艺条件而异，最多时可达20％。类金刚石具有很高的硬度、高导热性、高绝缘性、良好的化学稳定性、从红外到紫外的高光学透过率等。这与金刚石相似，但其性能数值均低于金刚石膜。类金刚石膜已开始用作耐磨涂层。
CAS号：
性质：又称山膜。碳的一种亚稳态，组成主要是碳，也含有氢，其量随工艺条件而异，最多时可达20％。类金刚石具有很高的硬度、高导热性、高绝缘性、良好的化学稳定性、从红外到紫外的高光学透过率等。这与金刚石相似，但其性能数值均低于金刚石膜。类金刚石膜已开始用作耐磨涂层。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条