2) As Doped Poly-Si
掺As多晶Si
4) low-temperature polycrystalline Si film
低温多晶Si薄膜
1.
High-quality low-temperature polycrystalline Si films were obtained under the optimal amount of H_2 in the source gas.
以SiH4,Ar和H2为反应气体,采用射频等离子体化学气相沉积方法在300℃下制备了低温多晶Si薄膜。
5) nanograin polycrystalline silicon films
纳米晶粒多晶Si 薄膜
6) eutectic Si
共晶Si相
1.
The effect of the solidified rate on the morphology of eutectic Si and α-Al dendrite was studied by mean of scanning electron microscope(SEM).
利用扫描电子显微镜,研究凝固速度对共晶Si相、α(Al)树枝晶形态的影响。
2.
The results show that with the increase of superheat treatment temperature, the undercooling increases, and the superheat treatment results in remarkable refinement of the α-Al dendrite and the particle or fibre transition of the eutectic Si.
结果表明:随着超温处理温度升高,过冷度增大;熔体超温处理使得α-Al相二次枝晶间距变小,共晶Si相颗粒化和纤维化;相同冷却速率下,熔体中Aln、Sin类原子团簇的类型和大小的变化决定了α-Al二次枝晶间距的减小。
补充资料：多晶莫来石晶须(纤维)
分子式：
CAS号：
性质：莫来石相为主晶相的多晶纤维。化学成分为Al2O3 72％～77％，SiO222％～17％，B2O3 3％～5％，P2O51.5％～3.0％。纤维直径2～7μm，纤维长度20～125μm。使用温度1350℃。多采用溶胶-凝胶法制造。主要用作补强填料，也可作为轻质、隔热保温材料使用。
CAS号：
性质：莫来石相为主晶相的多晶纤维。化学成分为Al2O3 72％～77％，SiO222％～17％，B2O3 3％～5％，P2O51.5％～3.0％。纤维直径2～7μm，纤维长度20～125μm。使用温度1350℃。多采用溶胶-凝胶法制造。主要用作补强填料，也可作为轻质、隔热保温材料使用。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条