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1)  E-gun evaporation
电子枪蒸发
2)  double electron gun evaporation method
双电子枪蒸发法
1.
Zirconium vanadium alloy films were prepared by double electron gun evaporation method.
采用双电子枪蒸发法制备出锆钒二元合金膜,系统地研究了膜厚控制仪RatioControl参数、沉积温度和退火温度等关键参数对合金膜成分和物相的影响规律。
3)  electron evaporation
电子蒸发
4)  emitting system of electron gun
电子枪发射系统
5)  field emission gun
场发射电子枪
6)  electron beam evaporation
电子束蒸发
1.
Photoelectrical properties and microstructure of ITO films prepared by electron beam evaporation;
电子束蒸发技术制备ITO薄膜的光电特性和微结构研究
2.
Characteristic study of nano ZnO films prepared by electron beam evaporation;
电子束蒸发制备纳米ZnO薄膜及其特性研究
3.
Roughness and light scattering properties of ZrO_2 thin films deposited by electron beam evaporation;
电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性
补充资料:“金属风暴”电子枪

这种枪一经击发,子弹便势如暴风骤雨,能够在一分钟内从36个枪管内发射100万发子弹。这种“金属风暴”技术从本质上来讲,已经完全脱离了传统的弹道-发射技术,其基本操作系统完全由电路所控制。因此,“金属风暴”技术不像传统武器那样受到机械部分的束缚。

“金属风暴”武器系统的核心特征是在单个枪管内串联放置多个弹头,通过电子击发连续不断的将弹丸从枪管内“推”出来。在此基础上,将数个乃至更多的枪管汇聚在一起,形成一个紧凑、完整的武器系统。因此,“金属风暴”系统在理论上可无限扩充,从而形成更惊人的弹药发射量,射速也就更加迅猛。

目前,36管的“金属风暴”试验系统就已经超过了每分钟100万发!而传统武器中射速最快的加特林式机关炮射速也不过6000发/分。

采用“金属风暴”技术的武器,没有任何活动的零件,没有单独的弹夹,不需要装弹和排弹,也不需要退壳装置。“金属风暴”在工作时,唯一的动作就是射出弹丸,一切控制完全依靠电子电路。

当枪管中第一发弹丸被击发时,同一管中的后续弹丸会在电路的控制下被锁死,防止在高温高压下因失控而发射。随后,电路将第二发弹丸“解锁”并击发,后续弹丸则继续保持被锁状态。然后依次重复这个过程,使枪管中的全部弹丸按顺序发射完毕。

将“金属风暴”技术应用在正在研制发展的武器系统包括无人驾驶空中作战航空器上,这种航空器可以携带12座40毫米口径的迫击炮,共1200个炮管,同时还可装载7200枚榴弹。

这种系统的发射能力前所未有,一次连续发射的弹药可以覆盖长3200米、宽46米的地面。正在研制发展的另外一种武器系统可以装在小型作战航空器上,这种武器系统可以在对机身不产生任何压迫力、或者降低飞行速度的情况下,在0.001秒内向一个目标发射270发子弹。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
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