1) GaAs1-xNx films
GaAs_(1-x)N_x薄膜
2) GaAs 1-x P x
GaAs_(1-x)P_x
3) TiC_(1-x) N _ x
TiC_(1-x)N_x
4) HfC_(1-x)N_x solid solution
HfC_(1-x)N_x固溶体
5) GaP_(1-x)N_x pesudobinary compound system
GaP_(1-x)N_x合金
6) Ge-xC 1-x films
Ge_xC_(1-x)薄膜
补充资料：GaAs epitaxial wafer
分子式：
CAS号：
性质：在特定晶向[(100)或(100)偏向最近<110>2 ～5 的晶面]砷化镓衬底上外延生长的单晶薄层材料外延工艺有LPE、VPE、MOCVD、MBE、CBE、ALE等工业选择取决于器件结构等因素，一般LPE、VPE多用于商品化器件，如光探测器、霍尔器件等。MBE、CBE、ALE多用于最子阱超晶格材料。MOCVD两方面兼而有之。
CAS号：
性质：在特定晶向[(100)或(100)偏向最近<110>2 ～5 的晶面]砷化镓衬底上外延生长的单晶薄层材料外延工艺有LPE、VPE、MOCVD、MBE、CBE、ALE等工业选择取决于器件结构等因素，一般LPE、VPE多用于商品化器件，如光探测器、霍尔器件等。MBE、CBE、ALE多用于最子阱超晶格材料。MOCVD两方面兼而有之。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条