1) silicon films
Si薄膜
1.
The silicon films under different substrate conditions and silane concentrations by the self-designed ICP-CVD equipment were deposited.
采用自主设计的ICP-CVD设备,在不同的衬底条件和SiH4浓度下制备了一系列的Si薄膜样品。
2.
The silicon films have been deposited by ion beam sputtering on the Si(100) wafer at 400℃.
在温度为400℃下,采用离子束溅射技术在 Si(100)衬底上沉积Si薄膜。
2) Si/Al/Si film
Si/Al/Si薄膜
3) Si/Fe/Si film
Si/Fe/Si薄膜
1.
A sandwich-type Si/Fe/Si film was deposited on Cu foil by magnetron sputtering.
采用磁控溅射法在铜箔集流体上沉积得到了具有“三明治”结构的Si/Fe/Si薄膜。
4) Fe/Si thin film
Fe/Si薄膜
5) Ta_2O_5/Si thin film
Ta_2O_5/Si薄膜
6) Si/SiO 2 films
Si/SiO_2薄膜
补充资料：Al-Si cast aluminium alloy
分子式：
CAS号：
性质：以硅为主要合金元素的铸造铝合金。硅的添加量范围为5％～25％，并添加镁、铜等元素，形成亚共晶型、共晶型或过共晶型合金。含硅量为5％～13％的亚共晶型或共晶型合金是工业生产中应用最广泛的铸造铝合金。良好的铸造工艺性能和气密性是它们的主要特点。含硅量在13％以上的过共晶型合金具有热膨胀系数小、耐磨性好等特点。
CAS号：
性质：以硅为主要合金元素的铸造铝合金。硅的添加量范围为5％～25％，并添加镁、铜等元素，形成亚共晶型、共晶型或过共晶型合金。含硅量为5％～13％的亚共晶型或共晶型合金是工业生产中应用最广泛的铸造铝合金。良好的铸造工艺性能和气密性是它们的主要特点。含硅量在13％以上的过共晶型合金具有热膨胀系数小、耐磨性好等特点。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条