1) Harmonic imaging
谐波成像技术
2) harmonic
谐波
1.
The Harmonic Interference and Its control in CNC Lathes;
数控车床中的谐波干扰及其抑制
2.
Application of DSP in the Electric Power Harmonic Analysis;
数字信号处理器在电力谐波分析中的应用
3.
Dynamic Reactive Compensation and Harmonic Filter System for SVC;
SVC动态无功补偿和谐波滤波系统
3) harmonic wave
谐波
1.
Analysis and harness of harmonic wave of silicon rectification units;
硅整流装置的谐波分析与治理
2.
Wiring method of rectifying station and harmonic wave abatement;
整流站接线方式及谐波治理
3.
A study on the design method of suppression of harmonic wave;
谐波抑制的设计方法探讨
4) harmonics
谐波
1.
Study on the harmonics situation of non-linear load customer (small steel factory);
非线性客户(小钢厂)谐波工询研究
2.
Harmonics in the Main Circuit of a Controllable Saturated Reactor;
可控饱和电抗器主回路谐波问题
3.
Simulation and analysis of AC side current harmonics of SRM system;
开关磁阻电动机交流电源侧电流谐波仿真分析
5) Harmonic waves
谐波
1.
It is difficult that analysis of harmonic waves of the magnetic motive force of non-normal winding is carried out.
为解决定子绕组采用非正规排列的电机的谐波分析难题,以单个线圈为基础,对定子采用非正规排列的异步机的绕组谐波进行分析,推导出每相绕组谐波的分布系数、绕组系数的计算公式,进而导出绕组谐波的三相综合分布系数和三相合成磁动势等相关参数的表达式,并通过计算机辅助设计系统给出非正规异步电机的谐波分析结果和转矩-转差率曲线。
2.
Through the harmonic waves test and data analysis of 110 kV/35 kV Positive and vice-generatrix,110 kv first and second generatrixs,main transformers and offtracks in these substations,the measurement and computation methods are presented.
通过对江苏武进地区某110 kV变电站35 kV正副母线,10 kV一、二段母线及主变压器和出线进行谐波测试及数据分析,介绍了测试方法和计算方法,取得一定的现场经验和数据分析能力,解决了谐波测试中存在的一些问题。
3.
To process sampling data with a recursion sum algorithm decreases the interference of harmonic waves in DC signal measurement.
介绍了递推求和算法抑制谐波干扰的机理 ,分析了运算量 ,给出了算法的实现公式和程序运行结束的判断规则。
6) harmonic current
谐波
1.
Research on causes of harmonic current magnification and its restraining measures for reactive power compensation device with shunt capacitors in low voltage distribution network;
低压配电网并联电容基波无功补偿装置的谐波放大及其抑制措施
2.
It is introduced that harmonic current in the electric network and harmonic current detecting method based on instantaneous reactive power theory in the paper,and then it presents the current detecting method in the anisomerous mains voltage,aberrance circuit based on instantaneous reactive power theory.
通过对电网谐波和瞬时无功功率理论在谐波检测中应用的分析研究,作者给出了基于瞬时无功功率理论的检测方法在电网电压不对称、存在畸变时的电流检测方法。
3.
A novel detective principle and method for currents of power network are developed, in which the distortion of the voltage and the phase angle of fundamental voltage are considered and the fundamental active, reactive current and any term harmonic current can be effectively detected only by measuring single phase voltage and current.
本文发展了一种电网电流的检测方法,在考虑电网电压畸变和基波电压初始相角的情况下,只需通过检测一相线路的电流、电压,就能有效地检测出电网基波有功、无功电流和任意次数的谐波电流,适用于电网无功功率补偿、谐波的补偿以及故障诊断和保
参考词条
补充资料：解决暗场成像技术延伸晶圆检测
大多数暗场检测系统的核心是声光偏转器（AOD）。当高频信号作用于它时，AOD展现某些特性，它可折射出激光束。如果此激光束折射地很快，结果就相当于在晶圆上画一激光扫描线。正是这条线可确定每次通过晶圆的检测高度，这和产量直接相关。
传统的暗场结构很简单：主要是基于照明斑点和光电倍增管（PMT）传感器。
如今，大多数传统的暗场检测系统可达到100M像素/秒。理论上，可达到300M像素/秒。但是，在暗场中，晶圆结构的散射可从一个像素中几个光子到下个像素中变成数百万个光子，当取样时间减少到>3 nsec时，使支持高动态范围（>12比特）和单输出数字化系统的电子电路的研发变得越来越难。扩展激光光斑扫描的另一障碍是为提高检测灵敏度而减少光斑尺寸时，功率密度就增加了，也就增加了先进晶圆材料受损伤的危险性。另外，光斑扫描结构不能依比例缩小分辨率并同时保持光的傅立叶滤光。这点很重要，因为对先进SRAM和DRAM阵列，傅立叶滤光可使激光器光斑扫描系统的灵敏度增加10倍。
KLA-Tencor公司研发了一种解决方案，避开了这些基本限制，即把难题从前端照明处转移到集光端。这简化了采用光学透镜沿晶圆跟踪线的要求。其新的Puma 9000平台采用了专利结构，可在晶圆上形成一条长线并进行检测，同时，经过多个集光通道可产生双暗场平面。KLA-Tencor设计了一种新的线性传感器和结构，称之为“Streak”技术，它可使传统的暗场极限分别得到解决，能提供>500M像素/秒，以及≤65 nm的线监测能力。对精密的运算规则有足够的计算能力，可从多个通道分析数据。同时，不会延长扫描时间和牺牲产量。
以前，通常采用的是激光光斑和PMT，但PMT是一种光探测器，它并不意味着更高的分辨率。分辨率由照明光斑的尺寸决定。平台能控制照明光斑的尺寸，而且因它有一个与像素有关的传感器，在集光通道中也存在分辨率。成像技术结合照明线允许系统傅立叶滤波任何先进的阵列结构，得到10倍灵敏度的增加，同时增加了照明线上和成像集热器的分辨率。具有双暗场结构的照明和集光器的结合可在获得传统的暗场晶圆产量的前提下得到最好的缺陷灵敏度。
典型的应用是在氮化硅剥离后在像STI CMP这样的薄层上的空洞探测。空洞的大小可在200nm到20nm范围内。Puma对>50 nm的空洞的产量已达>10 wph，这对传统的暗场系统是做不到的。另一个例子是对在90nm到70nm设计规则下，某些遗漏的接触孔甚至部分被刻蚀的接触孔的探测，由于和接触层有关的噪声，至今为止，这方面的探测也成了检测系统面临的主要挑战。
由于平台不再受AOD要求的限制，它可望将延伸好几代。
传统的暗场结构很简单：主要是基于照明斑点和光电倍增管（PMT）传感器。
如今，大多数传统的暗场检测系统可达到100M像素/秒。理论上，可达到300M像素/秒。但是，在暗场中，晶圆结构的散射可从一个像素中几个光子到下个像素中变成数百万个光子，当取样时间减少到>3 nsec时，使支持高动态范围（>12比特）和单输出数字化系统的电子电路的研发变得越来越难。扩展激光光斑扫描的另一障碍是为提高检测灵敏度而减少光斑尺寸时，功率密度就增加了，也就增加了先进晶圆材料受损伤的危险性。另外，光斑扫描结构不能依比例缩小分辨率并同时保持光的傅立叶滤光。这点很重要，因为对先进SRAM和DRAM阵列，傅立叶滤光可使激光器光斑扫描系统的灵敏度增加10倍。
KLA-Tencor公司研发了一种解决方案，避开了这些基本限制，即把难题从前端照明处转移到集光端。这简化了采用光学透镜沿晶圆跟踪线的要求。其新的Puma 9000平台采用了专利结构，可在晶圆上形成一条长线并进行检测，同时，经过多个集光通道可产生双暗场平面。KLA-Tencor设计了一种新的线性传感器和结构，称之为“Streak”技术，它可使传统的暗场极限分别得到解决，能提供>500M像素/秒，以及≤65 nm的线监测能力。对精密的运算规则有足够的计算能力，可从多个通道分析数据。同时，不会延长扫描时间和牺牲产量。
以前，通常采用的是激光光斑和PMT，但PMT是一种光探测器，它并不意味着更高的分辨率。分辨率由照明光斑的尺寸决定。平台能控制照明光斑的尺寸，而且因它有一个与像素有关的传感器，在集光通道中也存在分辨率。成像技术结合照明线允许系统傅立叶滤波任何先进的阵列结构，得到10倍灵敏度的增加，同时增加了照明线上和成像集热器的分辨率。具有双暗场结构的照明和集光器的结合可在获得传统的暗场晶圆产量的前提下得到最好的缺陷灵敏度。
典型的应用是在氮化硅剥离后在像STI CMP这样的薄层上的空洞探测。空洞的大小可在200nm到20nm范围内。Puma对>50 nm的空洞的产量已达>10 wph，这对传统的暗场系统是做不到的。另一个例子是对在90nm到70nm设计规则下，某些遗漏的接触孔甚至部分被刻蚀的接触孔的探测，由于和接触层有关的噪声，至今为止，这方面的探测也成了检测系统面临的主要挑战。
由于平台不再受AOD要求的限制，它可望将延伸好几代。
| 作者：Alexander E. Braun，Semiconductor International高级编辑 |
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