1) γ-Al2O3 thin film
γ-Al2O3薄膜
2) γ-Al2O3 membrane
γ-Al2O3膜
3) alumina film
Al2O3薄膜
1.
Thin alumina films were deposited on the heat-resistant steel,type HP40.
以仲丁醇铝(ATSB)为前驱物、氮气为载气,用金属有机化学气相沉积法(MOCVD)在HP40钢表面沉积了Al2O3薄膜。
4) TiO2/Al2O3 films
TiO2/Al2O3薄膜
1.
Anatase TiO2 and TiO2/Al2O3 films were successfully prepared on foam nickel substrates by sol-gel technique.
研究表明:泡沫镍负载的TiO2和TiO2／Al2O3薄膜具有良好的光催化活性,特别是TiO2／Al2O3薄膜具有更高的催化活性。
5) Al2O3 thin film
Al2O3薄膜
1.
Al2O3 thin films were grown by atomic layer deposition using trimthylaluminum (TMA) and water (H2O) as precursors at 270℃.
以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜。
2.
Al2O3 thin film were deposited on both sides of manganin fiols.
而采用绝缘封装层为Al2O3薄膜的箔式传感器,可拓宽其测压上限。
3.
The preparation process of Al2O3 thin film is represented by the sol-gel method,in which Al(NO3)3·9H2O is used as precusor,water and HNO3 as solvent and peptizing agent,respectively.
分别以溶液下降法和真空浸渍法在三维网络碳化硅陶瓷骨架(3D-SiC)表面浸涂γ-AlOOH溶胶,采用不同烧结制度在3D-SiC表面生成了Al2O3薄膜。
6) ultrafiltration alumina membrane
γ-Al2O3超滤膜
补充资料：(γ-γ′)反应
分子式：
CAS号：
性质：指γ光子与靶核作用，使其激发，然后以发射光子形式退激发的过程。出射光子的能量与受激靶核性质有关，为靶核激发态与基态这两个能级之差值。该反应截面很小，只有毫靶恩量级。
CAS号：
性质：指γ光子与靶核作用，使其激发，然后以发射光子形式退激发的过程。出射光子的能量与受激靶核性质有关，为靶核激发态与基态这两个能级之差值。该反应截面很小，只有毫靶恩量级。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条