1) γ-aluminamembranes
γ-Al_2O_3薄膜
4) SiO_2-Al_2O_3 film
SiO_2-Al_2O_3薄膜
5) alumina film
Al_2O_3薄膜
1.
Amorphous alumina films were prepared on the quartz substrates by RF magnetron sputtering using theα-Al_2O_3 ceramic target.
采用α-Al_2O_3陶瓷靶材,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了非晶Al_2O_3薄膜。
6) Al_2O_3 film
Al_2O_3薄膜
1.
The optical characteristics on the interrelation between wavelength and refractivity,absorptance,film thickness of the Al_2O_3 films prepared by medium frequency reactive magnetron sputtering is studied,and the formulas expressing the irrelation are obtained in the range of 400-1000nm.
采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al_2O_3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其它物理特性的方法。
补充资料：(γ-γ′)反应
分子式：
CAS号：
性质：指γ光子与靶核作用，使其激发，然后以发射光子形式退激发的过程。出射光子的能量与受激靶核性质有关，为靶核激发态与基态这两个能级之差值。该反应截面很小，只有毫靶恩量级。
CAS号：
性质：指γ光子与靶核作用，使其激发，然后以发射光子形式退激发的过程。出射光子的能量与受激靶核性质有关，为靶核激发态与基态这两个能级之差值。该反应截面很小，只有毫靶恩量级。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条