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1)  electron beam ion source
电子束离子源
2)  Electron Beam Ion Source (EBIS)
电子束离子源(EBIS)
3)  Ion beam source
离子束源
4)  Broad beam ion source
宽束离子源
5)  multi ion and electron
多离子束电子束
1.
This paper describes a new multi ion and electron beam system for preparing optic thin films.
本文介绍一种新型的光学薄膜制备用多离子束电子束系统。
6)  power supplies for ion beam
离子束用电源供应器
补充资料:热束源
分子式:
CAS号:

性质:产生分子束的装置。可分为隙流束源和超声分子束源。隙流束源(effusive beam source)是采用加热的方法使分子(如钠)蒸发,从狭缝中射出,经一准直孔把发散的分子挡掉,可得一束较窄而直的分子束射向反应室。束源出口小孔的尺寸要小于束源内分子热运动的平均自由程,束源内分子速度是按玻尔兹曼分布,分子速度分布相对较宽,发散角大,因而束强较小。隙流束源又称热束源、扩散束源、炉束源等。超声分子束源(supersonic molecular beam)气体分子从喷嘴射出,经出口孔、准直器进入真空室。其特点是束源强度大,沿轴线方向流动使束的发散性得到抑制;由于向真空绝热膨胀,温度可降低到小于20K;速度分布窄。由于马赫数M(=束流速度/声速)可达几十(超音速),故又称超声分子速。分子束的强度即束强(beam intensity),是单位时间通过与入射束运动方向相垂直的单位面积的粒子数。束流(beam flux)是单位时间内射到检测器上的粒子数,也称通量。

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