1) electron ionization ion source
电子电离源
3) ion pump power
离子泵电源
1.
The features of the BEPCII linac vacuum system are described,with the remote monitoring system used in the process of ion pump power starting to normal operation and overflow protection based on PLC.
同时介绍了基于PLC可编程控制器应用于离子泵电源的启动和过流保护的远控系统。
5) Plasma cutter
等离子电源
6) arc source
电弧离子源
补充资料：电子电离源
分子式：
CAS号：
性质：又称电子轰击离子源(electron impact ion source)，常缩写为EI1源(EI1 source)。质谱分析中最常用的离子源，由炽热灯丝发射的电子束，经电离室飞向阳极，被气化的试样分子流在约10-2Pa压力下进入离子源，与能量约为70eV的电子束作用，发生约10～20eV的能量交换，形成包括正离子在内的各种产物。正离子由一个小的推斥(或拉出)电位推出离子源，被加速后送入质量分析器。大部分试样分子和电离产物被离子源的真空泵抽走。
CAS号：
性质：又称电子轰击离子源(electron impact ion source)，常缩写为EI1源(EI1 source)。质谱分析中最常用的离子源，由炽热灯丝发射的电子束，经电离室飞向阳极，被气化的试样分子流在约10-2Pa压力下进入离子源，与能量约为70eV的电子束作用，发生约10～20eV的能量交换，形成包括正离子在内的各种产物。正离子由一个小的推斥(或拉出)电位推出离子源，被加速后送入质量分析器。大部分试样分子和电离产物被离子源的真空泵抽走。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条