1) V+C dual implantation
V和C离子注入
2) V ion implantation
V离子注入
3) implanting C
离子注入C
4) C-ion implantation
C离子注入
1.
TiN coatings were deposited on carbide tools by PVD process, and the coating surface were modified with C-ion implantation technology.
在硬质合金刀具上沉积了PVD-TiN涂层,并采用C离子注入技术对其进行表面改性处理。
5) dual implantation
C和金属离子双注入
6) ion implantation and deposition
离子注入和沉积
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
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参考词条