1) Si and Cu implantation
Si和Cu离子注入
2) He and Si ion implantation
He离子和Si离子注入
5) ion implantation and deposition
离子注入和沉积
6) yttrium and cerium ion implantation
钇和铈离子注入
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
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参考词条